权益分类	功能权益	普通用户	{{item.name}}会员
{{category.name}}	{{benefitItem.name}}

反応性クライオプラズマの創製とその材料加工プロセスへの応用

反应性冷等离子体的产生及其在材料加工过程中的应用

基本信息

批准号：
13J06697
负责人：
宗岡均
金额：
$ 1.92万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2013
资助国家：
日本
起止时间：
2013-04-01 至 2016-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

本年度は、本研究課題の最終年度として、これまでに行ってきた、(A)ヘリウム（He）の気液臨界点近傍における絶縁破壊現象についての研究、(B)He/窒素混合系クライオプラズマ中の種々の反応のプラズマガス温度依存性についての実験および計算による研究、(C)レーザー干渉計によるプラズマガス温度測定について、さらなる実験・考察をおこなった。さらに、これまでの基礎的な研究結果を材料加工プロセスの応用につなげるための研究として、(D)クライオ温度における高圧N2およびAr中における新たな放電電極の開発と材料の表面処理についての研究を新たに行った。まず、(A)については、本年度は得られた結果の論文誌（J Phys E）およびプラズマ表面処理に関する国際学会において発表を行った。(B)の研究では、「プラズマガス温度」というパラメータのプラズマ化学における重要性を明確に示し、クライオプラズマのみならず一般的な非平衡プラズマにおいてもインパクトがあるものと考えている。また、(C)については、クライオプラズマにおいて重要な課題であるガス温度制御のために、ガス温度評価が必要であり、レーザーヘテロダイン干渉計による屈折率測定を通じてガス温度を見積もる手法を活用した。レーザー干渉計を組み上げ、新たに測定を行った。続いて、(D)において新たな高密度流体中プラズマ源の開発を行った。本研究では、Heよりも安価で工業的な応用が見込めるN2およびArにおいて、それぞれ臨界温度付近の温度において、気体、超臨界流体、液体にまたがる領域におけるプラズマ源の開発を行った。本研究では、電界電子放出能の高いカーボンナノチューブを利用した誘電体バリア放電により、低電圧で安定かつ大面積のプラズマ源の生成を行うことができた。発光分光測定の結果より、プラズマ中での準安定窒素分子の多量の存在と、準安定分子と誘電体表面の活発な化学反応が示唆され、現在投稿論文執筆中である。

This year, the final year of this research project,(A) the study of the phenomenon of extinction near the critical point of helium,(B) the study of the species in the mixture system of helium and helium,(C) the study of the temperature dependence of helium and helium,(C) the temperature measurement of helium and helium,さらなる実験·考察をおこなった。In addition, the basic research results of this paper are the research results of material processing, application,(D) temperature, high pressure N2 and Ar, and the research results of surface treatment of electrode development materials. This year's edition of the journal (J Phys E) was published by the International Society for Surface Treatment. (B)The importance of this study is clearly demonstrated by the fact that the temperature of the reaction medium is higher than that of the reaction medium. In addition,(C), A new method of measurement (D) The development of new sources in high density fluids. This study is aimed at the development of industrial applications such as N2 and Ar, critical temperatures, liquids, supercritical fluids, and sources. In this study, the electron emission energy of the electric field is high, and the electron emission energy of the electric field is stable. The results of photoluminescence measurement show that there is a large amount of quasi-stable molecule in the sample, and the chemical reaction of quasi-stable molecule and electrophore surface is demonstrated.