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Development of new graphene production method based on SiC

基于SiC的新型石墨烯生产方法的开发

基本信息

批准号：
26706014
负责人：
Norimatsu Wataru
金额：
$ 15.39万
依托单位：
Nagoya University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
起止时间：
2014-04-01 至 2017-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-26706014/
关键词：
グラフェン表面・界面物性表面物性エピタキシャル成長

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（41）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Interplay between step-bunching and graphene growth on 6H-SiC (0001)

6H-SiC 上的阶梯聚束与石墨烯生长之间的相互作用 (0001)

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
Wataru Norimatsu;Osamu Yasui;Jianfeng Bao;and Michiko Kusunoki
通讯作者：
and Michiko Kusunoki

急冷法によるSiC(0001)上バッファ層フリーグラフェンの作製

快速冷却法在SiC(0001)上制备游离石墨烯缓冲层

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
包建峰;乗松航;楠美智子
通讯作者：
楠美智子

SiC初期酸化膜の周期制御とそのグラフェン化に与える影響

SiC初始氧化膜的周期控制及其对石墨烯形成的影响

DOI：
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
0
作者：
宮田将大;乗松航;楠美智子
通讯作者：
楠美智子

Growth and Features of Epitaxial Graphene on SiC

DOI：
10.7566/jpsj.84.121014
发表时间：
2015-12-15
期刊：
JOURNAL OF THE PHYSICAL SOCIETY OF JAPAN
影响因子：
1.7
作者：
Kusunoki, Michiko;Norimatsu, Wataru;Starke, Ulrich
通讯作者：
Starke, Ulrich

SiC (000-1)上B4C薄膜のエピタキシャル成長

SiC 上外延生长 B4C 薄膜 (000-1)

DOI：
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
0
作者：
増森淳史;乗松航;楠美智子
通讯作者：
楠美智子

DOI：
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作者：
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作者：
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作者：
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作者：
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Norimatsu Wataru其他文献

A study on formation mechanisms of relief structure formed in situ on the surface of ceramics

陶瓷表面原位浮雕结构的形成机制研究

DOI：
10.1016/j.ceramint.2019.08.008
发表时间：
2019
期刊：
Ceramics International
影响因子：
5.2
作者：
Zhang Wei;Yamashita Seiji;Kumazawa Takeshi;Ozeki Fumihito;Hyuga Hideki;Norimatsu Wataru;Kita Hideki
通讯作者：
Kita Hideki

Electrical contact properties between carbon nanotube ends and a conductive atomic force microscope tip

碳纳米管末端与导电原子力显微镜尖端之间的电接触特性

DOI：
10.1063/1.5027849
发表时间：
2018
期刊：
Journal of Applied Physics
影响因子：
3.2
作者：
Inaba Masafumi;Ohara Kazuyoshi;Shibuya Megumi;Ochiai Takumi;Yokoyama Daisuke;Norimatsu Wataru;Kusunoki Michiko;Kawarada Hiroshi
通讯作者：
Kawarada Hiroshi

(Invited) Electrical Integrity and Anisotropy in Dielectric Breakdown of Layered h -BN Insulator

（特邀）层状h-BN绝缘体介电击穿的电完整性和各向异性

DOI：
10.1149/07901.0091ecst
发表时间：
2017
期刊：
ECS Transactions
影响因子：
0
作者：
Nagashio Kosuke;Hattori Yoshiaki;Takahashi Nobuaki;Taniguchi Takashi;Watanabe Kenji;Bao Jianfeng;Norimatsu Wataru;Kusunoki Michiko
通讯作者：
Kusunoki Michiko

Observation of a flat band and bandgap in millimeter-scale twisted bilayer graphene

毫米级扭曲双层石墨烯中平带和带隙的观察

DOI：
10.1038/s43246-021-00221-3
发表时间：
2021
期刊：
Communications Materials
影响因子：
7.8
作者：
Sato Keiju;Hayashi Naoki;Ito Takahiro;Masago Noriyuki;Takamura Makoto;Morimoto Mitsuru;Maekawa Takuji;Lee Doyoon;Qiao Kuan;Kim Jeehwan;Nakagahara Keisuke;Wakabayashi Katsunori;Hibino Hiroki;Norimatsu Wataru
通讯作者：
Norimatsu Wataru

蛍光免疫センサーQ-body を提示した酵母細胞の構築と抗原検出

荧光免疫传感器Q体酵母细胞的构建及抗原检测

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
Imaeda Hirotaka;Koyama Takeshi;Kishida Hideo;Kawahara Kenji;Ago Hiroki;Sakakibara Ryotaro;Norimatsu Wataru;Terasawa Tomo-o;Bao Jianfeng;Kusunoki Michiko;井上暁人・安田貴信・北口哲也・上田宏
通讯作者：
井上暁人・安田貴信・北口哲也・上田宏