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Is wafer-scale graphene on the semi-insulating SiC the most appropriate for electronics applications?

Is wafer-scale graphene on the semi-insulating SiC the most appropriate for electronics applications?
半绝缘碳化硅上的晶圆级石墨烯最适合电子应用吗？
批准号：
18H01889
负责人：
Norimatsu Wataru
金额：
$11.23万
依托单位：
Nagoya University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2018-04-01 至 2021-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-18H01889/
关键词：
グラフェン表面界面構造成長技術界面移動度電子状態移動度向上高周波トランジスタ

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エピタキシャルグラフェンによる超伝導体薄膜の転移温度向上
利用外延石墨烯提高超导薄膜的转变温度
DOI： --
发表时间： 2021
期刊：
影响因子： --
作者： [乗松航, 近藤大斗, 伊藤孝寛]
通讯作者： 伊藤孝寛
超伝導体TaC薄膜のグラフェン被覆による転移温度向上
石墨烯涂层提高超导TaC薄膜的转变温度
DOI： --
发表时间： 2021
期刊：
影响因子： --
作者： [近藤大斗, 林直樹, 伊藤孝寛, 遠藤彰, 乗松航]
通讯作者： 乗松航
Interface engineering of epitaxial graphene
外延石墨烯界面工程
DOI： --
发表时间： 2018
期刊：
影响因子： --
作者： [清水一矢, 林直輝, 伊藤孝寛, 乗松航, Wataru Norimatsu]
通讯作者： Wataru Norimatsu
Acceleration of Photocarrier Relaxation in Graphene Achieved by Epitaxial Growth: Ultrafast Photoluminescence Decay of Monolayer Graphene on SiC
DOI： 10.1021/acs.jpcc.8b06845
发表时间： 2018-08-23
期刊： JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C
影响因子： 3.7
作者： [Imaeda, Hirotaka, Koyama, Takeshi, Kusunoki, Michiko]
通讯作者： Kusunoki, Michiko
共 37 条
    Experimental and theoretical study on the two-dimensional Al-C material AlCene
    • 批准号：
      16K13674
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额：
      $2.41万
    • 财政年份：
      2016
    • 负责人：
      Norimatsu Wataru
    • 依托单位：
      Nagoya University
    Development of new graphene production method based on SiC
    • 批准号：
      26706014
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
    • 资助金额：
      $15.39万
    • 财政年份：
      2014
    • 负责人：
      Norimatsu Wataru
    • 依托单位：
      Nagoya University
    国内基金
    海外基金
    稀土元素Y的选择性氧化致Mg-Zn-Y-Zr合金表面层组织演变及耐蚀性改善机制的研究
    • 批准号：
      2026JJ50467
    • 项目类别：
      省市级项目
    • 资助金额：
      --
    • 批准年份：
      2026
    • 负责人：
      吴落义
    • 依托单位：
      湖南大学
    基于可重构智能表面的共生无线电关键技术研究
    • 批准号：
      2026JJ50514
    • 项目类别：
      省市级项目
    • 资助金额：
      --
    • 批准年份：
      2026
    • 负责人：
      黄柯文
    • 依托单位：
      湖南大学
    表面集成结构富锂层状正极材料的制备及电压稳定性机理
    • 批准号：
    • 项目类别：
      省市级项目
    • 资助金额：
      --
    • 批准年份：
      2026
    • 负责人：
      肖渊
    • 依托单位：
      湖南科技大学
    调控外源性N-羟乙酰神经氨酸在细胞表面沉积的关键唾液酸转移酶筛选及其调控机制研究
    • 批准号：
      2026JJ90021
    • 项目类别：
      省市级项目
    • 资助金额：
      --
    • 批准年份：
      2026
    • 负责人：
      何恩祺
    • 依托单位：
      湖南农业大学