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Development of AlN growth technique using Ga-Al flux

Development of AlN growth technique using Ga-Al flux
使用Ga-Al助熔剂开发AlN生长技术
批准号：
26706013
负责人：
Adachi Masayoshi
金额：
$15.48万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2014-04-01 至 2018-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-26706013/
关键词：
液相成長窒化アルミニウム融液熱物性エピタキシャル成長結晶成長結晶工学金属生産工学

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DOI： --
发表时间： 2016
期刊：
影响因子： --
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通讯作者： 安達正芳，小畠秀和，福山博之
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期刊：
影响因子： --
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通讯作者： 関谷竜太，安達正芳，大塚誠，杉山正史，飯田潤二，福山博之
共 10 条
    Development of novel AlN crystal growth method using Al vapor generated from heated Ga-Al soluiton
    • 批准号：
      17K19067
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
    • 资助金额：
      $4.16万
    • 财政年份：
      2017
    • 负责人：
      Adachi Masayoshi
    • 依托单位：
      Tohoku University
    海外基金