Charakterisierung von Wachstums- und Grenzflächenphänomenen von Metall-Chalkogenid-Schichtstrukturen mittels hochauflösender Methoden der Transmissionselektronenmikroskopie

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Die Struktur von Übergangsmetall-Dichalkogenid-Schichten und ihrer Grenzflächen soll mittels der modernen Verfahren der hochauflösenden Transmissionselektronenmikroskopie untersucht werden. Die Untersuchungen werden in enger Ankopplung an die in der Forschergruppe in Kiel geplanten Arbeiten durchgeführt. Schwerpunkte werden bei (A) der Untersuchung der Struktur und Grenzflächen von Schichten und Multischichten und (B) der Untersuchung der Frühstadien des Wachstums von dünnen Filmen liegen. Im Teilprojekt (A) sollen insbesondere die Struktur und Grenzflächen von Sulfid- und Selenid-Schichtstrukturen und Multischicht-Systemen sowie die Interkalation von Alkalimetallen mit den Methoden der Transmissionselektronenmikroskopie untersucht werden. Dabei wird es erforderlich sein, experimentell gewonnene Aufnahmen mit den Verfahren der digitalen Bildauswertung und Bildanalyse zu verarbeiten und mit numerischen Bildsimulationen zu vergleichen. Im Teilprojekt (B) soll das Wachstum epitaktischer Inselstrukturen mit dendritischer Berandung untersucht werden, wobei sich die Strukturcharakterisierung auf quantitative lokale Informationen über Gitterparameter, Inselabstände, Vorzugsorientierungen und die Grenzflächen zwischen Inseln und Substrat konzentrieren wird. Die Untersuchungen lassen ein umfassendes Verständnis der Struktur der Schichten und Grenzflächen und der die Schichtherstellung bestimmenden Parameter erwarten.