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Charakterisierung von Wachstums- und Grenzflächenphänomenen von Metall-Chalkogenid-Schichtstrukturen mittels hochauflösender Methoden der Transmissionselektronenmikroskopie

使用高分辨率透射电子显微镜方法表征金属硫族化物层结构的生长和界面现象

基本信息

批准号：
5201038
负责人：
Professor Dr. Wolfgang Jäger
金额：
--
依托单位：
Institut für Materialwissenschaft
依托单位国家：
德国
项目类别：
Research Units
财政年份：
1999
资助国家：
德国
起止时间：
1998-12-31 至 2007-12-31
项目状态：
已结题

来源：
https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5201038?language=en
关键词：
Charakterisierung von Wachstums und Grenzfl

项目摘要

Die Struktur von Übergangsmetall-Dichalkogenid-Schichten und ihrer Grenzflächen soll mittels der modernen Verfahren der hochauflösenden Transmissionselektronenmikroskopie untersucht werden. Die Untersuchungen werden in enger Ankopplung an die in der Forschergruppe in Kiel geplanten Arbeiten durchgeführt. Schwerpunkte werden bei (A) der Untersuchung der Struktur und Grenzflächen von Schichten und Multischichten und (B) der Untersuchung der Frühstadien des Wachstums von dünnen Filmen liegen. Im Teilprojekt (A) sollen insbesondere die Struktur und Grenzflächen von Sulfid- und Selenid-Schichtstrukturen und Multischicht-Systemen sowie die Interkalation von Alkalimetallen mit den Methoden der Transmissionselektronenmikroskopie untersucht werden. Dabei wird es erforderlich sein, experimentell gewonnene Aufnahmen mit den Verfahren der digitalen Bildauswertung und Bildanalyse zu verarbeiten und mit numerischen Bildsimulationen zu vergleichen. Im Teilprojekt (B) soll das Wachstum epitaktischer Inselstrukturen mit dendritischer Berandung untersucht werden, wobei sich die Strukturcharakterisierung auf quantitative lokale Informationen über Gitterparameter, Inselabstände, Vorzugsorientierungen und die Grenzflächen zwischen Inseln und Substrat konzentrieren wird. Die Untersuchungen lassen ein umfassendes Verständnis der Struktur der Schichten und Grenzflächen und der die Schichtherstellung bestimmenden Parameter erwarten.

该结构的超钢金属-双金属-Schichten和其Grenzflächen soll mittels der modernen Verfahren der hochauflösenden Transmissionselektronenmikroskopie untersucht韦尔登。我们的韦尔登恩格尔安科普朗，在基尔的研究小组中被解雇。Schwerpunkte韦尔登是（A）对Schichten和Multischichten的结构和Grenzflächen的研究，以及（B）对Dünnen Filmen liegen的Wachstums的Frühstadien的研究。在该项目中，我们采用透射电子显微镜韦尔登的方法，研究了硫化物和硒化物结构和多金属系统的结构和分布。通过数字图像处理和图像分析的方法，并通过数字图像模拟的方法，进行了实验研究。在Teilprojekt（B）中，将Wachstum epitaktischer Inselstrukturen与dendritischer Berandung韦尔登结合，将结构特性与定量局部信息相结合，Inselabstände，Vorzugsorientierungen和Grenzflächen zwischen Inseln和Substrat konzentrieren。Die Untersuchungen lassen ein umfassendes Verständnis der Struktur der Schichten und Grenzflächen und der die Schichtherstellung bestimmenden Parameter erwarten.