プラズマ援用による単結晶 SiC の低温成長
プラズマ援用による単結晶 SiC の低温成長
批准号:
59550011
负责人:
西野 茂弘
金额:
$1.34万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份:
1984
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1984 至 1985
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会议论文
シリコンカーバイドの結晶成長とデバイス応用の研究
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批准号:98F00185
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.15万
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财政年份:1999
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负责人:西野 茂弘
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依托单位:
昇華法による立方晶SiCインゴットの単結晶成長
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批准号:07650012
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1995
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负责人:西野 茂弘
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依托单位:
バルク状単結晶SiCの育成と結晶多形の制御
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批准号:04650019
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.22万
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财政年份:1992
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负责人:西野 茂弘
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依托单位:
ラジカムビ-ル励起による半導体SiCの結晶成長
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批准号:03650013
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$0.9万
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财政年份:1991
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负责人:西野 茂弘
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依托单位:
単結晶SiCのプラズマCVDにおける励起種の表面反応の研究
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批准号:02214216
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1990
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负责人:西野 茂弘
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依托单位:
単結晶SiCのプラズマCVDにおける励起種の表面反応の研究
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批准号:01632515
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1989
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负责人:西野 茂弘
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依托单位:
単結晶SiCのプラズマCVDにおける励起種の表面反応の研究
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批准号:63632516
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.22万
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财政年份:1988
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负责人:西野 茂弘
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依托单位: