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放射光走査型分析顕微鏡の基本設計

同步辐射扫描分析显微镜的基本设计

基本信息

批准号：
60229007
负责人：
合志陽一
金额：
$ 1.92万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Special Project Research
财政年份：
1985
资助国家：
日本
起止时间：
1985 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究は短期間であったが所期の目的を達したので報告する。1.設計システム集光系の設計を円滑にすすめるため、パーソナルコンピュータを端末とする設計システムを完成させた。これによりレイトレーシングを中心とする設計作業が著るしく容易になり、また精度よい最適設計が可能となった。2.二段集光系の設計上記システムを用い、ウオルター型の集光系を設計した。設計のエネルギー上限を10KeVとしたシステムを最適化設計した。レイトレーシングの結果によれば、放射光光源を前提とすると、結像特性は非常に良好であった。すなわち、放射光光源を大型のウオルター型タンデム集光鏡で集光し、次に回転双曲面と回転楕円面を組合せた微小焦点集光鏡をシリーズに配置したものである。最終段の縮小倍率は13分の1で最適化できた。3.結像特性の検討X線管による超高輝度線源でアルミニウム【K_α】線を用い微小スポットの結像特性を検討したところ、約1μmφとなり、現時点でサブミクロンスポットが実現できた。さらに改良の見通しがついた。4.レプリカ母材の加工と検査法の確立母材を正確に加工するための計測システムを完成させた。すなわち光学実験台上にレーザーと母材を配置し、加工をすすめながら、形状検査をするもので、高精度の集光系の製作に不可欠のものである。以上、基本設計に必要なツールをソフト・ハード両面について完成し、放射光走査型分析顕微鏡の設計を行なうことができ、試作の準備をととのえることができた。

In the short term, the purpose of this study is to conduct a short-term report review. 1. The design equipment sets the light system, the design equipment, the design, the end, the end. The design of the operating system is easy to read, and the most accurate design may be used. two。 The two-stage light collection system design is used to design the light collection system design. To design the most customized design tool, to design the upper limit of the 10KeV software. The results show that the results are very good, the premise of the radiation light source is very good, and the image properties are very good. The light source, the light source, the hyperboloid, the hyperboloid, the surface, the The most important segment is the minimum magnification rate of 13 points and 1 point. 3. The image characteristics show that the X-ray tube is used to measure the ultra-high temperature, the source temperature is very high, and the [Kα] line is characterized by the micro-temperature. The image characteristics of the X-ray tube, the ultra-high temperature, the [Kα] line, the micro-temperature, the temperature and the temperature. There is no need to improve the situation. 4. The base metal processing method is used to make sure that the base metal is processed correctly. The optical equipment on the stage, the configuration of the base metal, the processing, the shape, and the precision of the light collecting system can not be owed. The above, the basic design needs to be completed, the radiation analysis micrometer design is required, and the system is ready to be tested.