Mikrostrukturierung von Formgedächtnislegierungen (A03)

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Die Untersuchungen zur Mikrostrukturierung von Formgedächtnislegierungen (FGL) mit Fokussierten Ionenstrahlen (FIB) und der lokalen Beeinflussung der Eigenschaften durch Ionenimplantation sollen fortgeführt werden (lokale Änderung der Legierungszusammensetzung, Zielpräparation für die Elektronenmikroskopie u. a.). Nachdem wichtige Kenngrößen wie Sputterrate und Legierungsänderungsgrenzen von Ni und Ti von FGL bestimmt worden sind, soll die systematische Übertragung dieser Daten auf die unterschiedlichen Sputterprozesse für verschiedene FGL-Mikrosysteme (insbesondere dünne Schichten) erfolgen. In FIB-strukturierten Mikroproben sollen Widerstand und Halleffekt untersucht werden, um neben den Mikroskopie- und Mechanik-Untersuchungen von FGL auch eine elektrische Charakterisierung verfolgen zu können.