高度に組成・結晶構造制御したPLZTエピタキシャル薄膜のMOCVD法による合成
高度に組成・結晶構造制御したPLZTエピタキシャル薄膜のMOCVD法による合成
批准号:
03855156
负责人:
舟窪 浩
金额:
$0.64万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
1991
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1991 至 --
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新規蛍石構造圧電体膜の機構解明と材料群開拓
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批准号:24H00375
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$30.95万
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财政年份:2024
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
室温合成可能な新規単純化合物強誘電体群の開拓
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批准号:22K18307
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Research (Pioneering)
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资助金额:$16.56万
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财政年份:2022
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
窒化アルミニウム基エピタキシャル薄膜を用いた強誘電性サイズ効果の解明
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批准号:21H01617
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$11.23万
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财政年份:2021
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
ピエゾMEMSの信頼性確保を目指した圧電体膜の結晶構造およびドメイン構造評価
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批准号:12F02766
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.47万
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财政年份:2012
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
次世代強誘電体メモリ用強誘電体材料の電気的及び物理的特性
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批准号:09F09816
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2009
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
チタン酸ジルコン酸鉛単結晶モデル粒界を用いたナノドーパントの圧電制御機構の解明
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批准号:20047004
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$3.07万
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财政年份:2008
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
Bi-Zn-Nb-0エピタキシャル膜のチューナビリティー機構解明
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批准号:18656189
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.98万
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财政年份:2006
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
Si上の光-電子融合デバイス集積を目指したβ-FeSi_2エピタキシャル薄膜合成
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批准号:16656202
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.11万
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财政年份:2004
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
環境低負荷な鉄とシリコンからなるベータ鉄シリサイド半導体を用いた太陽電池の検討
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批准号:14655236
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.92万
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财政年份:2002
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
パルスMOCVD法によるチタン酸ジルコン酸鉛薄膜の析出機構の解明
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批准号:12750596
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.41万
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财政年份:2000
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
エピタキシャル成長単結晶薄膜を用いたチタン酸バリウム半導体化機構の解明
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批准号:10750490
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.09万
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财政年份:1998
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负责人:舟窪 浩
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依托单位:
in-situ伝導度測定による半導性ZnO薄膜成膜初期の成長機構の解明
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批准号:08750779
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1996
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负责人:舟窪 浩
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依托单位: