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ラジカル反応を利用したセラミックス材料形状加工装置の開発

ラジカル反応を利用したセラミックス材料形状加工装置の開発
利用自由基反应开发陶瓷材料形状加工设备
批准号：
04750103
负责人：
山村 和也
金额：
$0.58万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1992
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1992 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-04750103/
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Realization of completely distortion-free processing by plasma nano-manufacturing process and exploration of its theory
  • 批准号：
    21H05005
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (S)
  • 资助金额：
    $120.56万
  • 财政年份：
    2021
  • 负责人：
    山村 和也
  • 依托单位：
    Osaka University
触媒フリー・無電解銅めっきプロセスの開発とPTFE基板の素子化
  • 批准号：
    20656026
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 资助金额：
    $2.05万
  • 财政年份：
    2008
  • 负责人：
    山村 和也
  • 依托单位：
    Osaka University
大気圧プラズマを用いた高周波水晶デバイス用水晶基板の無歪薄板化プロセスの開発
  • 批准号：
    15686007
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
  • 资助金额：
    $18.97万
  • 财政年份：
    2003
  • 负责人：
    山村 和也
  • 依托单位：
    Osaka University
大気圧プラズマによる高密度ラジカル反応を用いた超精密加工に関する研究
  • 批准号：
    12750097
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额：
    $1.54万
  • 财政年份：
    2000
  • 负责人：
    山村 和也
  • 依托单位：
    Osaka University