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高圧力プラズマによる高効率ラジカル反応加工に関する研究-加工面評価及び有効な反応系の究明-

利用高压等离子体进行高效自由基反应加工的研究 - 加工表面的评估和有效反应系统的研究 -

基本信息

批准号：
06750122
负责人：
山村和也
金额：
$ 0.58万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1994
资助国家：
日本
起止时间：
1994 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究の目的は、我々の提唱する常圧下でのプラズマを用いた新加工法プラズマCVMにおける加工現象ならびに有効な反応系を、加工実験ならびに量子力学シミュレーションにより解明することにある。本年度は、まず加工実験を行なうためのプラズマ励起によるラジカル照射型加工装置を製作し、それを用いたシリコンのハロゲンラジカル(フッ素,塩素)による加工実験および加工特性データの取得を行なった。その結果、フッ素を用いた場合にはほぼ100%の反応ガス利用率が得られたのに対し、塩素を用いた場合には加工現象が全く見られないという、明確な加工特性の違いが得られた。このことは、電気陰性度の大きさからくる反応性、ならびに常温下における反応生成物の蒸気圧の大きさ等を考えると、直感的には理解しがたい結果である。そこでこの結果を考察するために、シリコンとフッ素ならびに塩素の反応性を第一原理分子動力学シミュレーションにより解析を行なった。解析にはSi(001)2×1再構成表面のダイマー部にハロゲン原子を2個吸着させたモデルを用い、第一原理分子動力学により構造緩和を行なって吸着安定構造を求めた。次に吸着安定位置においてポピュレーション解析を行ない結合の強さを表す結合次数を求めたところ下表の結果を得た。これより、フッ素を吸着させた方がよりシリコン側の結合が弱くなることが分かり、実験結果と定性的に一致することが分かった。今後は他の材料と反応ガスの組み合わせにおいても同様に実験とシミュレーションの両面から解析し、プラズマCVMにおける加工機構の解明を行っていく予定である。

The purpose of this study is to use the new machining method CVM CVM to process the current under constant pressure. Like the ならびにeffective reaction systemを, the processing 実験ならびにquantum mechanicsシミュレーションにより Explain the することにある. This year, we will use the irradiation type processing equipment that we are using to produce and use the processing equipment.たシリコのハロゲンラジカル(フッ素,婩素)による Processing実験および Processing Characteristics データのGET を行なった.そのRESULT, フッ素を用いたoccasionにはほぼ100%の濜ガスutilization rateが得られたのに対し,塩It is easy to understand the machining phenomenon in various situations and clearly understand the machining characteristics.このことは, 电気negative degree の大きさからくるreaction, ならびににおけるreaction at room temperature The result of the test is the test of the result of the product, and the intuitive understanding is the result.そこでこのRESULTS Reflexivity, first principles molecular dynamics and molecular dynamics analysis. Analyze Si(001)2×1 reconstructed surface のダイマー部にハロゲンatomicを2sorbingさせたモデルを用い、First principles molecular dynamics によりstructural relaxation を行なってsuction and stability structure をquestめた. Time absorption and stabilization position においてポピュレーションanalytic を行ないcombinationのstrongさをtableすcombination timesをask めたところのRESULTS をgetた in the table below.これより、フッSuを sucking させたsquare がよりシリコンsideの合が weakくなることが分かり、実験RESULTS AND QUALITATIVE CONSISTENCE することが分かった. From now on, the material of the future is the same as the original material of the group.両面からanalyticsし、プラズマCVMにおけるThe explanation of the machining mechanism を行っていく predetermined である.