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大気圧プラズマによる高密度ラジカル反応を用いた超精密加工に関する研究

大気圧プラズマによる高密度ラジカル反応を用いた超精密加工に関する研究
利用大气压等离子体高密度自由基反应进行超精密加工的研究
批准号：
12750097
负责人：
山村 和也
金额：
$1.54万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
2000
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2000 至 2001
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-12750097/
关键词：
プラズマCVM大気圧プラズマ数値制御加工ラジカル反応X線ミラー非球面ミラー回転電極ラジカルSOIウエハ

项目摘要

项目成果

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本研究の目的は、大気圧プラズマによって発生させた高密度ラジカルを利用する新しい加工法であるプラズマCVM(Chemical vaporization Machining)を実用化して、X線ミラー等の超精密光学素子を高能率に作製するために必要な基礎的な加工特性データを取得することにある。本年度はこれまでに開発した数値制御プラズマCVM加工装置を用いて形状加工を行い、以下の成果を得た。(1)加工の空間分解能を向上させるために、プラズマを発生させる電極として小径(直径1mm)のパイプ状電極を適用することにより、約2mmの空間波長成分までを修正可能とした。(これまでの回転電極を用いた場合では約10mmの空間波長までが限界)(2)硬X線を集光するための非球面(楕円面)ミラーを作製し、形状誤差3mp-v以下を実現した。作製したミラーの集光性能を、SPring-8における放射光を用いて言平価したところ、ミラーを用いた集光系としては世界最小の集光径(0. 2×0. 3μm)を達成することができた。
期刊论文(8)
专著(0)
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会议论文
Yoso Mori,Kazuya Yamamura,Yashisa Sano: "The study of fabrication of the X-ray mirror by numerically confrolled plasma chemical Vaporzalion machming : Development of the machine for the X-ray minor fabriador"Rev.Sci,Instrum.. Vol.71.No.12.. 4620-4626 (200
Yoso Mori、Kazuya Yamamura、Yashisa Sano：“通过数控等离子体化学气相加工制造 X 射线镜的研究：X 射线镜制造机的开发”Rev.Sci，Instrum.. Vol.71
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
森勇藏,山村和也,佐野泰久: "数値制御プラズマCVMによるX線ミラーの加工に関する研究(第1報)-X線ミラー加工用装置の開発-"精密工学会誌. Vol.67.No.1. 131-136 (2001)
Yuzo Mori、Kazuya Yamamura、Yasuhisa Sano：“利用数控等离子体 CVM 加工 X 射线反射镜的研究（首次报告）- X 射线反射镜加工设备的开发 -”日本精密工程学会杂志，第 1 卷。 67.第1号。131-136（2001）
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
森勇藏,山内和人,山村和也,佐野泰久: "プラズマCVMの開発"精密工学会誌. Vol.66.No.8. 1280-1285 (2000)
Yuzo Mori、Kazuto Yamauchi、Kazuya Yamamura、Yasuhisa Sano：“等离子体 CVM 的开发”日本精密工程学会杂志第 66 卷第 1280-1285 期（2000 年）。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
Puzo Mori,Kazuto Yamauchi Kazuya Yanmura,Yasuhisa Sano: "Development of plasma chemical vaporization machining"Rev.Sci.Iustrum.. Vol.71.No.12. 4627-4632 (2000)
Puzo Mori、Kazuto Yamauchi Kazuya Yanmura、Yasuhisa Sano：“等离子化学汽化加工的发展”Rev.Sci.Iustrum.. Vol.71.No.12。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
Realization of completely distortion-free processing by plasma nano-manufacturing process and exploration of its theory
  • 批准号：
    21H05005
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (S)
  • 资助金额：
    $120.56万
  • 财政年份：
    2021
  • 负责人：
    山村 和也
  • 依托单位：
    Osaka University
触媒フリー・無電解銅めっきプロセスの開発とPTFE基板の素子化
  • 批准号：
    20656026
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 资助金额：
    $2.05万
  • 财政年份：
    2008
  • 负责人：
    山村 和也
  • 依托单位：
    Osaka University
大気圧プラズマを用いた高周波水晶デバイス用水晶基板の無歪薄板化プロセスの開発
  • 批准号：
    15686007
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
  • 资助金额：
    $18.97万
  • 财政年份：
    2003
  • 负责人：
    山村 和也
  • 依托单位：
    Osaka University
大気圧プラズマを利用したラジカル反応による形状加工装置の開発
  • 批准号：
    09750141
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额：
    $1.28万
  • 财政年份：
    1997
  • 负责人：
    山村 和也
  • 依托单位：
    Osaka University
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