Experimental determination of Si and O diffusion rates in silicates for a microscopic understanding of flow behaviour of minerals

脉冲激光沉积(PLD)是一种标准的激光沉积方法。这将是，我们的方法修女的内部卤素，嗯类似于Schichten(无晶型或非晶状体)MIT Komplexer化学祖尔祖根(Z.B.Granat，辉石，奥利文等)。我们的同位异常率不会下降。在Silikten dhrtührt中，麻省理工学院进行了大量的实验。Dest fest haftenden，nit reaktiven Dünschichten MIT komplexer aber kontrollierter Chemie könnnnen ALS DiffusionsSquelle MIT verschiedenen Elementen(z.B.Si，O，Ca，See，Lu，Hf等)所有的一切都已经过去了，因为我们已经完成了这项工作。Trotz Verfahren，Z.B.Atem，SIMS，RBS fehlen diese Daten，da es Bisher keine geeigneten quellen gab，dieüber einen Breiten Breiten Bereich von P，T and deren Enhven Variablen and wendbar sind.Solche Diffusionsdaten en für viele geowisenschaftliche Bereiche，z.B.在der Rheologie(Si，O)中，温压(Ca，)元素模型lierung(See)从地球年代学(Schlieüung von Isolopischen System Wie Lu-HF)Benötigt。这是一项非常重要的工作，我们将为您的工作做好准备。

Die Pulsed Laser Deposition (PLD) hat sich als Standardmethode etabliert, dünne Schichten refaktärer Oxide herzustellen. Es wird beabsichtigt, diese Methode nun erstmals innerhalb der Geowissenschaften zu nutzen, um silikatische Schichten (amorph oder teilweise auch kristallin) mit komplexer Chemie zu erzeugen (z. B. Granat, Pyroxen, Olivin, etc.) die u. U. isotopisch dotiert sind. Mit Hilfe dieser Schichten sollen Experimente zur Bestimmung von Diffusionsraten in Silikaten durchgeführt werden. Die fest haftenden, nicht reaktiven Dünnschichten mit komplexer aber kontrollierter Chemie können als Diffusionsquelle mit verschiedenen Elementen (z. B. Si, O, Ca, SEE, Lu, Hf, etc.) verwendet werden, für die es bis jetzt nur wenige oder sogar keine Daten gibt. Trotz verbesserter analytischer Verfahren, z. B. ATEM, SIMS, RBS fehlen diese Daten, da es bisher keine geeigneten Quellen gab, die über einen breiten Bereich von P, T und anderen intensiven Variablen anwendbar sind. Solche Diffusionsdaten werden für viele geowissenschaftliche Bereiche, z. B. in der Rheologie (Si, O), Thermobarometrie (Ca,) Spurenelementmodellierung (SEE) oder Geochronologie (Schließung von isotopischen Systemen wie Lu-Hf) benötigt. Zusätzlich eröffnen diese Schichten die Möglichkeit, weitere kinetische Studien, welche definierte Grenzflächen bzw. Oberflächen benötigen, durchzuführen.