Synthese neuer Phasen im ternären System B-C-N

Im zurück liegenden Berichtszeitraum is es glungen，bor-，kohlenstoff-and tickststof haltige Schichten MIT Hilfe des PACVD-Verfahrens herzustellen.在这两个城市之间，我们有一个共同的目标。他说：“这是一件非常重要的事情。”C-bcn be der BVD-Technischen Herstellung der BCN-BN bzw.c-BCN be der CVD-Technischen Herstellung der BCN-Schichten，der MIT Hilfe der Massenspktroktrometrie bstimt t solled soll.在disherigen arbeiten hat sich gezeigt中，daédie Phasenzammensetzung der CN-Schicherheblich des geitvon der tzwirkung des bilicherheblich des bilitom ten wasstauff f Nicht-kubichen Phasen ABHäng giist.在Desem Zusammenang的地质学工厂中，模具是ABHänGigkeit von Plamazusamensetzung(verhältnis ar/h2)，Druck，Mikrowellenleistung and Substratur zu untersuhen.Für diese Unteruchugen ist es au？erdem von Vorteil，MIT Gröüerer Mikrowellenleistung and Höer Platedichzu arbeiten。他说：“这是一件非常重要的事情，我们不能再做任何事情了。”

Im zurückliegenden Berichtszeitraum ist es gelungen, bor-, kohlenstoff- und stickstoffhaltige Schichten mit Hilfe des PACVD-Verfahrens herzustellen. Die geplanten Forschungsvorhaben gelten der Fortsetzung der bisher durchgeführten Untersuchungen. Die aus Pyridinboran hergestellten Schichten sollen mittels TEM bezüglich ihrer Zusammensetzung und Struktur eingehender charakterisiert werden. Außerdem sind detaillierte Untersuchungen der physikalischen Eigenschaften der Schichten geplant.Von großem Interesse ist der Mechanismus der Bildung von c-BN bzw. c-BCN bei der CVD-technischen Herstellung der BCN-Schichten, der mit Hilfe der Massenspektrometrie bestimmt werden soll.In den bisherigen Arbeiten hat sich gezeigt, daß die Phasenzusammensetzung der BCN-Schichten erheblich von der Ätzwirkung des im Plasma gebildeten atomaren Wasserstoffs auf die nicht- kubischen Phasen abhängig ist. In diesem Zusammenhang ist geplant, die Ätzrate in Abhängigkeit von Plasmazusammensetzung (Verhältnis Ar/H2), Druck, Mikrowellenleistung und Substrattemperatur zu untersuchen.Für diese Untersuchungen ist es außerdem von Vorteil, mit größerer Mikrowellenleistung und höherer Plasmadichte zu arbeiten. Daher soll die CVD-Anlage mit einer Mikrowellen-Down-StreamQuelle ausgerüstet werden, die die Erzeugung eines sehr dichten Plasmas ermöglicht, mit dem die Bildung nicht-kubischer Phasen unterbunden werden kann.