広禁制帯幅半導体との複合による極限高効率シリコン太陽電池の開発

与宽带隙半导体结合开发极高效率硅太阳能电池

基本信息

  • 批准号:
    06558069
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 4.22万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    1994
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1994 至 1995
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究は、Siならびにそれに格子整合して成長させた広禁制帯幅半導体との複合材料系を用い、太陽光の広波長領域にわたって光エネルギーを最大限有効に活用し、30%を越える極限高効率を達成する新構造Si太陽電池と開発することを目的とする。具体的にはSiに格子整合するGaPを緩衝層とし、その上に最適な禁制帯幅を持つGaP系広禁制帯幅半導体を成長させ、Siとの複合太陽電池構造を形成する。(1)高品位結晶の精密制御成長と評価、(2)価電子制御と高効率素子の試作、の2つの課題を中心に据え研究を遂行した。有機金属気相成長法において、原料供給量を制御し、GaP系混晶半導体の組成比を変化させ、禁制帯幅を精密に制御することに成功した。成長温度、原料流量比、など高品位単結晶を得るための最適成長条件を確立した。高効率素子の実現には価電子制御と接合形成が不可欠である。とくに、複合化に必須のGaPとSiとの素子接合に、高濃度に不純物を添加したトンネル接合を設けることを試みた。添加原料の選択により、GaP系半導体では報告されている中では最高の濃度を達成した。不純物濃度とトンネル電流特性の関連を明らかにし、複合構造素子に最適なトンネル接合の形成技術を確立することが急務である。
は this study, Si な ら び に そ れ に grid integration し て growth さ せ た hiroo banned 帯 of semiconductor と の composites is を い, sunlight の hiroo wavelength domain に わ た っ て light エ ネ ル ギ ー を most time is sharper に the more appropriate し, 30% を え る limit high working rate を reached す る neotectonic Si solar cell と open 発 す る こ と を purpose と す る. Specific に は Si に grid integration す る GaP を buffer layer と し, そ の on the optimal な に banned 帯 picture を hold つ GaP is hiroo banned 帯 semiconductor を growth picture さ せ, Si と の を compound solar cell structure formation す る. (1) the high grade crystal の precision suppression と review 価 growth, (2) 価 LTD royal と high working rate son の attempt, の 2 つ の subject を に を center according to え study carries out し た. Organic metal 気 each other n に お い て, raw material supply を suppression し, GaP of mixed crystal semiconductor の than を variations change さ せ, ban 帯 を precision に suppression す る こ と に successful し た. The growth temperature, raw material flow rate ratio, and な <s:1> high-grade 単 crystallization を are determined to obtain the るため <s:1> optimal growth conditions を, which are established as <s:1> た. The high-efficiency prime particle <s:1> occurrence に 価 価 electron control と bonding formation が cannot be lacking in である. Composite と く に, に must の GaP と Si と の element bonding に, high concentration に impurity content を add し た ト ン ネ ル joint を set け る こ と を try み た. When adding raw materials, please select 択によ 択によ and GAP-based semiconductors. In the report of されて されて る る る, the highest <s:1> concentration of で で has reached を た. Impurity concentration と ト ン ネ ル の current characteristics masato even を Ming ら か に し, composite structure element に optimum な ト ン ネ ル joint の を forming technology to establish す る こ と が because で あ る.

项目成果

期刊论文数量(4)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
T.Fuyuki: "Heteroepitaxial growth of InGap for extremely high-efficiency 2-terminal tandem solar cell with Si" Solar Energy Materials and Solar Cells. 35. 33-38 (1994)
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  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
T. Fuyuki: "Preferentially-oriented polycrystalline Si growth for thin film solar cells using SiH2Cl2 decomposed in plasma" Proceedings of First World Conference on Photovoltaic Enerqy Conversion. 1383-1386 (1994)
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    0
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  • 发表时间:
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知道了