フレキシブル高効率太陽電池の創出に向けたモノライク赤外光吸収層の開発
フレキシブル高効率太陽電池の創出に向けたモノライク赤外光吸収層の開発
批准号:
19J21034
负责人:
今城 利文
金额:
$1.79万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2019
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2019-04-25 至 2022-03-31
中文摘要
本研究では、高効率を誇る多接合太陽電池の汎用性を高めるため、基板に用いる単結晶Geウェハをプラスチック上のGe薄膜に代替することを目的とする。最終年度となる本年度は、主に以下の成果が得られた。①我々は固相成長法の高度化により、従来法よりも2桁の大粒径化(~10 μm)を達成するとともに、Ge薄膜の正孔密度を1E17 cm-3まで低減した。しかし、光生成キャリアの取り出しには多数キャリアの更なる低減が望ましい。従って、多結晶Ge薄膜におけるアクセプタの起源を調査した。機械学習に基づいた新しい解析法を提案し、多結晶Ge薄膜では、室温における正孔が粒内・粒界双方から生じることを見出した。②上記解析により見出したアクセプタ欠陥の低減のために、Sn添加とH2プラズマ処理を検討した。その結果、補償効果により前者では1桁、後者では2桁の正孔低減を達成し、最終的に2×10E15 cm-3という極めて低い値と成った。これは、膜中欠陥が少なく高品質なGe薄膜が得られたことを示す。③先ず、n型Si基板上にGeOx下部層を1 nm挿入することで恣意的にエピタキシャル関係を断ち、固相成長Ge薄膜を合成し、太陽電池を試作した。その結果、多結晶Ge薄膜に起因した分光感度スペクトルを得た。すなわち、絶縁体基板上で優れた分光感度を得るには急峻なp/n接合が望ましいことが判明した。本知見を基に絶縁体基板上の固相成長Ge薄膜に立ち返った。リン拡散材を用いて適切なRTA処理を行い、膜表面のみをn型化することで、SiO2ガラス上に合成した固相成長Ge薄膜由来の明瞭な分光感度(15 mA/W)を実証した。全プロセスがプラスチック基板の耐熱温度以下で行える事実は、フレキシブル太陽電池応用へのポテンシャルを充分に示したと考えられる。
英文摘要
本研究では、高効率を誇る多接合太陽電池の汎用性を高めるため、基板に用いる単結晶Geウェハをプラスチック上のGe薄膜に代替することを目的とする。最終年度となる本年度は、主に以下の成果が得られた。①我々は固相成長法の高度化により、従来法よりも2桁の大粒径化(~10 μm)を達成するとともに、Ge薄膜の正孔密度を1E17 cm-3まで低減した。しかし、光生成キャリアの取り出しには多数キャリアの更なる低減が望ましい。従って、多結晶Ge薄膜におけるアクセプタの起源を調査した。機械学習に基づいた新しい解析法を提案し、多結晶Ge薄膜では、室温における正孔が粒内・粒界双方から生じることを見出した。②上記解析により見出したアクセプタ欠陥の低減のために、Sn添加とH2プラズマ処理を検討した。その結果、補償効果により前者では1桁、後者では2桁の正孔低減を達成し、最終的に2×10E15 cm-3という極めて低い値と成った。これは、膜中欠陥が少なく高品質なGe薄膜が得られたことを示す。③先ず、n型Si基板上にGeOx下部層を1 nm挿入することで恣意的にエピタキシャル関係を断ち、固相成長Ge薄膜を合成し、太陽電池を試作した。その結果、多結晶Ge薄膜に起因した分光感度スペクトルを得た。すなわち、絶縁体基板上で優れた分光感度を得るには急峻なp/n接合が望ましいことが判明した。本知見を基に絶縁体基板上の固相成長Ge薄膜に立ち返った。リン拡散材を用いて適切なRTA処理を行い、膜表面のみをn型化することで、SiO2ガラス上に合成した固相成長Ge薄膜由来の明瞭な分光感度(15 mA/W)を実証した。全プロセスがプラスチック基板の耐熱温度以下で行える事実は、フレキシブル太陽電池応用へのポテンシャルを充分に示したと考えられる。
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DOI:
10.1016/j.jallcom.2021.161306
发表时间:
2021-08-04
期刊:
JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS
影响因子:
6.2
作者:
[Mizoguchi, Takuto, Imajo, Toshifumi, Toko, Kaoru]
通讯作者:
Toko, Kaoru
多結晶Ge膜におけるアクセプタ欠陥低減と分光感度実証
多晶Ge薄膜中受主缺陷减少和光谱灵敏度的演示
DOI:
--
发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
--
作者:
[溝口拓士, 今城利文, 茂藤健太, 末益崇, 都甲薫]
通讯作者:
都甲薫
多結晶Ge-TFTの性能評価と粒界・方位制御技術
多晶Ge-TFT性能评价及晶界/取向控制技术
DOI:
--
发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
--
作者:
[石山隆光, 今城利文, 茂藤健太,山本圭介, 末益崇, 都甲薫]
通讯作者:
都甲薫
DOI:
--
发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
--
作者:
[K. Moto, K. Yamamoto, T. Imajo, T. Suemasu, H. Nakashima, and K. Toko]
通讯作者:
and K. Toko
固相成長Ge薄膜の熱処理過程制御による移動度向上機構の解明”
通过控制固相生长Ge薄膜的热处理工艺阐明迁移率改善机制”
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[今城 利文, 末益 崇, 都甲 薫]
通讯作者:
都甲 薫
共 44 条
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GE11修饰的冰片紫杉醇脂质纳米粒的构建及其对三阴性脑转移乳腺癌的干预作用
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批准号:2024A02015
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项目类别:省市级项目
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批准年份:2024
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负责人:朱晨
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依托单位:
用于加速器产医用同位素Ge-68分离纯化的高容量吸附材料
制备及分离工艺研究
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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批准年份:2024
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负责人:翟向伟
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依托单位:
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批准号:TGY24H140015
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项目类别:省市级项目
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批准年份:2024
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负责人:童先
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依托单位:
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批准号:32360552
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项目类别:地区科学基金项目
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资助金额:32万元
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批准年份:2023
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负责人:李鑫
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黔东铅锌成矿带Ge-Cd超常富集机制:纳米流体包裹体约束
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项目类别:面上项目
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批准年份:2023
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依托单位:
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批准号:22309040
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项目类别:青年科学基金项目
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资助金额:30.00万元
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批准年份:2023
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依托单位:
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批准号:32371814
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项目类别:面上项目
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资助金额:50万元
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批准年份:2023
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负责人:闵斗勇
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依托单位:
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批准号:62304248
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项目类别:青年科学基金项目
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资助金额:30.00万元
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批准年份:2023
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负责人:王嘉义
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依托单位:
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批准号:2023JJ40635
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项目类别:省市级项目
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批准年份:2023
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负责人:邹喆乂
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依托单位:
高质量Ge/SiGe异质结自旋比特材料制备
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批准号:12304100
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资助金额:30.00万元
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批准年份:2023
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负责人:张结印
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依托单位: