化学増幅型レジストの放射線誘起反応機構の解明
化学放大抗蚀剂辐射诱导反应机理的阐明
基本信息
- 批准号:06780401
- 负责人:
- 金额:$ 0.58万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
- 财政年份:1994
- 资助国家:日本
- 起止时间:1994 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
オニウム塩‐ノボラック系の化学増幅型電子線・X線レジストにおける酸の発生過程を、実際のベース樹脂を用いたパルスラジオリシスにより調べた。実験は東京大学工学部附属原子力工学研究施設に設置されている28MeV線形加速器で行った。酸発生剤として、オニウム塩を使用し、ベース樹脂に構造の違う2種類のノボラックを用いた。溶融状態での15wt.%オニウム塩含有p-クレゾールノボラックの過渡吸収スペクトルにおいて、620nmにp-クレゾールノボラックのみでは観測されない吸収が現れる。固体状態でも同様の吸収が現れ、固体状態での寿命は0.68秒である。同じく、溶融状態での15wt.%オニウム塩含有m-クレゾールノボラックの過渡吸収スペクトルでは、540nmにp-クレゾールノボラック同様の長寿命成分が観測される。540nmの吸収もノボラックのみでは現れない。この吸収の寿命は23秒である。この吸収はその寿命からわかるように照射後も長時間残っており、分光光度計での測定が可能である。このような実験からこの吸収は酸発生剤の種類(スルフォニウム塩、アイオドニウム塩、ジニトロベンジルトシレイト)に依存せず、アミンで捕捉されることがわかっており、プロトン関与の吸収であると考えられる。これらの事実から、化学増幅型レジストでは照射時速やかにブレンステッド酸が形成されるわけではなく、プロトンは長時間不安定な状態で存在し、レジストの感度不安定性の一因になっていると考えられる。
Chemical Amplification Electron Beam and The process of 発生を, the のベース resin を is used to adjust the いたパルスラジオリシスにより. The 28 MeV linear accelerator is located at the Atomic Engineering Research Facility affiliated with the Faculty of Engineering of the University of Tokyo. Acid 発生剤として, オニウム塩を Used し, ベース Resin Structure のviolation 2 types of のノボラックを Used いた. Molten state での15wt.% オニウム塩contains p-クレゾールノボラックのtransition absorption スペクトルにおいて, 620nm にp-クレゾールノボラックのみでは観measurement されないAbsorptionが本れる. The solid state is the same as the absorption of the material, and the solid state has a lifespan of 0.68 seconds. Same as じく, molten state での15wt.% オニウム塩contains m-クレゾールノボラックの transition absorptionスペクトルでは、540nmにp-クレゾールノボラック同様のlong life ingredientが観measurementされる. 540nmのabsorption is the best. The absorption life span is 23 seconds. The absorbance and life span of the product are long-term after irradiation, and it is not possible to measure it with a spectrophotometer.このような実験からこのAbsorb the acid 発生剤のkind(スルフォニウム塩、アイオドニウム塩、ジニトロベンジルトシレイト)にdependenceせず、アミンでCaptureされることがわかっており、プロトン关与のAbsorptionであると考えられる.これらの事実から, chemical amplification type レジストでは irradiation speed やかにブレンステッド acid が formation されるわけではなく, プロトンは long-term unstable state exists で, レジストのsensitivity instability の一cause になっていると考えられる.
项目成果
期刊论文数量(1)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
T.Kozawa,et.al: "Radiation-Induced Reactions of Onium Salts in Novolak." ACS SYMPOSIUM SERIES:Polymeric Materials for Microelectronic Applications.579. 121-129 (1994)
T.Kozawa 等人:“酚醛清漆中鎓盐的辐射诱导反应”。
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- 发表时间:
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- 影响因子:0
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