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化学増幅型レジストの放射線誘起反応機構の解明

化学放大抗蚀剂辐射诱导反应机理的阐明

基本信息

批准号：
06780401
负责人：
古澤孝弘
金额：
$ 0.58万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1994
资助国家：
日本
起止时间：
1994 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

オニウム塩‐ノボラック系の化学増幅型電子線・X線レジストにおける酸の発生過程を、実際のベース樹脂を用いたパルスラジオリシスにより調べた。実験は東京大学工学部附属原子力工学研究施設に設置されている28MeV線形加速器で行った。酸発生剤として、オニウム塩を使用し、ベース樹脂に構造の違う2種類のノボラックを用いた。溶融状態での15wt.%オニウム塩含有p-クレゾールノボラックの過渡吸収スペクトルにおいて、620nmにp-クレゾールノボラックのみでは観測されない吸収が現れる。固体状態でも同様の吸収が現れ、固体状態での寿命は0.68秒である。同じく、溶融状態での15wt.%オニウム塩含有m-クレゾールノボラックの過渡吸収スペクトルでは、540nmにp-クレゾールノボラック同様の長寿命成分が観測される。540nmの吸収もノボラックのみでは現れない。この吸収の寿命は23秒である。この吸収はその寿命からわかるように照射後も長時間残っており、分光光度計での測定が可能である。このような実験からこの吸収は酸発生剤の種類(スルフォニウム塩、アイオドニウム塩、ジニトロベンジルトシレイト)に依存せず、アミンで捕捉されることがわかっており、プロトン関与の吸収であると考えられる。これらの事実から、化学増幅型レジストでは照射時速やかにブレンステッド酸が形成されるわけではなく、プロトンは長時間不安定な状態で存在し、レジストの感度不安定性の一因になっていると考えられる。

The chemical amplitude-increasing electron beam and X-ray of the system are used to modulate the production process of acid and the actual resin. The 28MeV linear accelerator was installed at the Atomic Engineering Research Facility, Faculty of Engineering, University of Tokyo. The acid generator is used in the resin structure and the two types of resin are used. 15wt.% in molten state It contains p-cru-ru r-ru The same absorption occurs in the solid state, and the lifetime in the solid state is 0.68 seconds. Same as The long life components of the same type at 540nm were detected. 540nm absorption spectrum is reflected in the absorption spectrum. The suction life is 23 seconds. The absorption time is longer after irradiation, and the determination by spectrophotometry is possible. The type of acid generator (s) that are responsible for the absorption and absorption of these substances depends on whether they are present, whether they are present or not. The chemical amplitude-increasing mode of radiation rate, the formation of acid, the existence of long-term instability, and the sensitivity instability of radiation rate.