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Elucidation of deprotonation induced mechanism in nano-and microfabrication process using ionizing radiations and its applications

阐明电离辐射纳米和微加工过程中去质子化诱导机制及其应用

基本信息

批准号：
19K05330
负责人：
Okamoto Kazumasa
金额：
$ 2.58万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
起止时间：
2019-04-01 至 2022-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（11）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

大阪大学産業科学研究所古澤研究室

大阪大学产业科学研究所古泽实验室

DOI：
发表时间：
期刊：
影响因子：
0
作者：
通讯作者：

大阪大学産業科学研究所　量子ビーム物質科学研究分野　ホームページ

大阪大学科学产业研究所量子束材料科学研究部主页

DOI：
发表时间：
期刊：
影响因子：
0
作者：
通讯作者：

Dependence of dose rate on the sensitivity of the resist under ultra-high flux extreme ultraviolet (EUV) pulse irradiation

超高通量极紫外 (EUV) 脉冲照射下剂量率对光刻胶灵敏度的依赖性

DOI：
10.35848/1882-0786/abfca3
发表时间：
2021
期刊：
Applied Physics Express
影响因子：
2.3
作者：
Okamoto Kazumasa;Kawai Shunpei;Ikari Yuta;Hori Shigeo;Konda Akihiro;Ueno Koki;Arai Yohei;Ishino Masahiko;Thanhhung Dinh;Nishikino Masaharu;Kon Akira;Owada Shigeki;Inubushi Yuichi;Kinoshita Hiroo;Kozawa Takahiro
通讯作者：
Kozawa Takahiro

Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resist by adding diphenyl sulfone derivatives

添加二苯砜衍生物提高化学放大型 EUV 光刻胶的灵敏度

DOI：
10.1117/12.2551865
发表时间：
2020
期刊：
Proc. SPIE, Advances in Patterning Materials and Processes XXXVII
影响因子：
0
作者：
Okamoto Kazumasa;Kawai Shunpei;Kozawa Takahiro
通讯作者：
Kozawa Takahiro

Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resist by adding dipheyl sulfone derivatives

通过添加二苯基砜衍生物提高化学放大型 EUV 光刻胶的灵敏度

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
Kazumasa Okamoto;Shunpei Kawai;Takahiro Kozawa
通讯作者：
Takahiro Kozawa

DOI：
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作者：
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Okamoto Kazumasa其他文献

Heating effect of the radiation chemistry of polyhydroxystyrene-type chemically amplified resists

聚羟基苯乙烯型化学放大型光刻胶的辐射化学热效应

DOI：
10.35848/1347-4065/aba7d7
发表时间：
2020
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
Ikari Yuta;Okamoto Kazumasa;Konda Akihiro;Kozawa Takahiro;Tamura Takao
通讯作者：
Tamura Takao

衛星測位における建築物の地震時応答変位観測に関する基礎研究

卫星定位建筑物地震响应位移观测基础研究

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
Murakami Shuntaro;Zhang Lihua;Jeem Melbert;Okamoto Kazumasa;Nakagawa Yuki;Shibayama Tamaki;Ohnuma Masato;Watanabe Seiichi;田嶋一之・向井智久・毎田悠承・南部禎士・鹿嶋俊英
通讯作者：
田嶋一之・向井智久・毎田悠承・南部禎士・鹿嶋俊英

デュアルコム分光のための近赤外光周波数コムの可視化

用于双梳光谱的近红外光学频率梳的可视化

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
Kudo Hiroto;Fukunaga Mari;Yamada Teppei;Yamakawa Shinji;Watanabe Takeo;Yamamoto Hiroki;Okamoto Kazumasa;Kozawa Takahiro;加藤英毅，池田孝介，佐藤航己，郷治侑真，大久保章，稲場肇，吉井一倫，洪鋒雷
通讯作者：
加藤英毅，池田孝介，佐藤航己，郷治侑真，大久保章，稲場肇，吉井一倫，洪鋒雷

摂食シグナルを受容する胆汁酸受容体TGR5

接收进食信号的胆汁酸受体 TGR5

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
実験医学
影响因子：
0
作者：
Murakami Yoshiyuki;Ishiwari Fumitaka;Okamoto Kazumasa;Kozawa Takahiro;Saeki Akinori;佐藤隆一郎
通讯作者：
佐藤隆一郎

Fabrication of color-toned micro/nanopattern surface by submerged photosynthesis method

浸没光合作用法制备彩色微纳图案表面

DOI：
10.1016/j.mee.2022.111727
发表时间：
2022
期刊：
Microelectronic Engineering
影响因子：
2.3
作者：
Tsukamura Jumpei;Takahashi Yuki;Zhang Lihua;Jeem Melbert;Okamoto Kazumasa;Watanabe Seiichi
通讯作者：
Watanabe Seiichi