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Elucidation of deprotonation induced mechanism in nano-and microfabrication process using ionizing radiations and its applications

Elucidation of deprotonation induced mechanism in nano-and microfabrication process using ionizing radiations and its applications
阐明电离辐射纳米和微加工过程中去质子化诱导机制及其应用
批准号：
19K05330
负责人：
Okamoto Kazumasa
金额：
$2.58万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-04-01 至 2022-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-19K05330/
关键词：
レジスト放射線化学リソグラフィ電子線極端紫外線(EUV)化学増幅型レジスト半導体微細化酸生成促進剤ジフェニルスルホン極端紫外線（EUV）脱プロトン反応レジスト材料EUVリソグラフィ極端紫外線パルスラジオリシス極端紫外線（ＥＵＶ）極端紫外線（EUV）・Ｘ線

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大阪大学産業科学研究所古澤研究室
大阪大学产业科学研究所古泽实验室
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
大阪大学産業科学研究所　量子ビーム物質科学研究分野 　ホームページ
大阪大学科学产业研究所量子束材料科学研究部主页
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
Dependence of dose rate on the sensitivity of the resist under ultra-high flux extreme ultraviolet (EUV) pulse irradiation
超高通量极紫外 (EUV) 脉冲照射下剂量率对光刻胶灵敏度的依赖性
DOI： 10.35848/1882-0786/abfca3
发表时间： 2021
期刊： Applied Physics Express
影响因子： 2.3
作者： [Okamoto Kazumasa, Kawai Shunpei, Ikari Yuta, Hori Shigeo, Konda Akihiro, Ueno Koki, Arai Yohei, Ishino Masahiko, Thanhhung Dinh, Nishikino Masaharu, Kon Akira, Owada Shigeki, Inubushi Yuichi, Kinoshita Hiroo, Kozawa Takahiro]
通讯作者： Kozawa Takahiro
Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resist by adding diphenyl sulfone derivatives
添加二苯砜衍生物提高化学放大型 EUV 光刻胶的灵敏度
DOI： 10.1117/12.2551865
发表时间： 2020
期刊： Proc. SPIE, Advances in Patterning Materials and Processes XXXVII
影响因子： --
作者： [Okamoto Kazumasa, Kawai Shunpei, Kozawa Takahiro]
通讯作者： Kozawa Takahiro
共 9 条
    Influence of charge delocalization in nanofabrication induced by ionizing radiations
    • 批准号：
      15K06662
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $3.08万
    • 财政年份：
      2015
    • 负责人：
      Okamoto Kazumasa
    • 依托单位：
      Hokkaido University
    海外基金