Räumliche Charakterisierung der Quell- und Fokaleigenschaften kohärenter fs-EUV Strahlung, Optimierung der Emission und Erzeugung ultrahoher EUV-Intensitäten

相干 fs-EUV 辐射的源和焦点特性的空间表征、发射优化和超高 EUV 强度的生成

• 批准号: 5263918
• 负责人: Professor Dr. Thomas Wilhein
• 金额: --
• 依托单位: Fachbereich Mathematik und Technik
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Priority Programmes
• 财政年份: 2000
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 1999-12-31 至 2004-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5263918?language=en
• 关键词: umliche; Charakterisierung; der; Quell; und

Die Emission von höheren Harmonischen aus fs-lasergetriebenen Quellen ist in den Spektralbereich der EUV- und weichen Röntgenstrahlung vorgedrungen. Um die Eigenschaften derartiger Quellen charakterisieren und die Emission optimieren zu können, sind EUV-optische Systeme erforderlich, die es erlauben, die geometrischen Parameter, z.B. Quellgröße und Abstrahlwinkel sowie absolute Photonenzahlen in den hohen Harmonischen zu bestimmen. Die Fokussierung der optimierten hohen Harmonischen Strahlung führt zu ultrahohen Spitzenintensitäten, die eine Vielzahl neuartiger Experimente in der Atom- und Röntgenphysik ermöglichen können.Das Projektziel, die Charakterisierung und Optimierung einer hohen Harmonischen Quelle und die Erzeugung extremer Intensitäten im EUV-Bereich kann durch Multilayerspiegel und/oder Zonenplattenanordnungen erreicht werden. Letztere bieten die Möglichkeit der Fokussierung räumlich kohärenter Quellen auf Spotgrößen deutlich kleiner als 1 µm; das ist zum einen für die Erzielung hoher Intensitäten von Vorteil, zum anderen eröffnet das hohe räumliche Auflösungsvermögen die Möglichkeit zukünftiger mikroskopischer Anwendungen im EUV-Bereich bei gleichzeitiger hoher Zeitauflösung (z.B. für X-ray-pump/X-ray-probe Experimente).

DEN Spektralbereich der Euv-weichenweichenRöntgenstrahlungvorgedrungen die发射vonHöherenhourischen aus fs-lasergetriebenen quellen ist。 um die eigenschaften derartiger quellen charakterisieren und die die die optimierenzuKönnen，sind euv-optische systeme erforderlich，die es erlauben，die GeoMetrischen参数，Z.B. Quellgröße和Abstrahlwinkel Sowie Sowie绝对Photonenzahlen在Den Hohen中最好的Harmonischen是最好的。最强大，最强大的和声是在世界上一直在工作的最强大，最有力的人。除了谐波的努力外，Harmonischen的最好的也是最好的。除了Euv-Bereich Kann Durch MultilayersPiegel und/oder Zonenplattenanordnungen Erreicht Werden。 letztere bieten diemöglichkeitder fokussierungräumlichKhärenterquellen aufsphotgrößendeutlich deutlich kleiner als als 1 µm; das ist zum einen für die Erzielung hoher Intensitäten von Vorteil, zum anderen eröffnet das hohe räumliche Auflösungsvermögen die Möglichkeit zukünftiger mikroskopischer Anwendungen im EUV-Bereich bei Gleichzeitiger Hoher Zeitauflösung （Z.B.FürX射线泵/X射线 - 探针实验）。