液晶显示器用非晶硅高速高产率制造方法研究-猫眼课题宝

液晶显示器用非晶硅高速高产率制造方法研究

批准号：

06750328

负责人：

川崎仁晴

金额：

$0.58万

依托单位：

Kyushu University

依托单位国家：

日本

项目类别：

Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)

财政年份：

1994

资助国家：

日本

项目状态：

已结题

起止时间：

1994 至 --

来源：

https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-06750328/

关键词：

微粒子ダストパーティクルシランプラズマアモルファスシリコン高速成膜プラズマCVD法変調高周波放電法

项目摘要

项目成果

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英文摘要

本研究の目的は,変調高周波放電法を用いて液晶ディスプレイ用アモルファスシリコンの高速度・高歩留まり作製の実現に向けての指針を得ることにある.このために,アモルファスシリコン成膜に用いられるシランプラズマ中のダストの蓄積と成長を抑さえるのに有効なプラズマのon,off期間,及びそのon,off期間と他のパラメータとの関係を明かにする必要がある.そこで高周波シランプラズマ中の微粒子成長過程を,レーザ散乱法(LLS),走査型電子顕微鏡(SEM)などを用いて調べた.その結果,微粒子は核発生,急速成長,成長飽和期の3つの過程を経て成長すること,急速成長期以降には,2種類のサイズグループの微粒子が同時に存在していること,急速成長は微粒子の凝集反応によって生じていることが明らかになった.以上の結果から,微粒子の核発生と急速成長が生じる前に放電をoffさせ,その間に放電領域内のガスを完全に交換することにより,微粒子の発生・成長を抑制できることが明らかになった.

期刊论文(2)

专著(0)

科研奖励(0)

会议论文

白谷正治: "Formation processes of Particulates in Helium-Diluted silane RF Plasma" IEEE Trans.Plasma Sci.22. 103-107 (1994)

Masaharu Shiratani：“氦稀释硅烷 RF 等离子体中颗粒的形成过程”IEEE Trans.Plasma Sci.22 (1994)。

DOI： --

发表时间：

期刊：

影响因子： --

作者：

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