液晶ディスプレイ用アモルファスシリコンの高速度・高歩留まり作製法に関する研究

液晶显示器用非晶硅高速高产率制造方法研究

• 批准号: 06750328
• 负责人: 川崎 仁晴
• 金额: $ 0.58万
• 依托单位: Kyushu University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
• 财政年份: 1994
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1994 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-06750328/
• 关键词: 微粒子; ダスト; パーティクル; シランプラズマ; アモルファスシリコン; 高速成膜; プラズマCVD法; 変調高周波放電法

本研究の目的は,変調高周波放電法を用いて液晶ディスプレイ用アモルファスシリコンの高速度・高歩留まり作製の実現に向けての指針を得ることにある.このために,アモルファスシリコン成膜に用いられるシランプラズマ中のダストの蓄積と成長を抑さえるのに有効なプラズマのon,off期間,及びそのon,off期間と他のパラメータとの関係を明かにする必要がある.そこで高周波シランプラズマ中の微粒子成長過程を,レーザ散乱法(LLS),走査型電子顕微鏡(SEM)などを用いて調べた.その結果,微粒子は核発生,急速成長,成長飽和期の3つの過程を経て成長すること,急速成長期以降には,2種類のサイズグループの微粒子が同時に存在していること,急速成長は微粒子の凝集反応によって生じていることが明らかになった.以上の結果から,微粒子の核発生と急速成長が生じる前に放電をoffさせ,その間に放電領域内のガスを完全に交換することにより,微粒子の発生・成長を抑制できることが明らかになった.

The purpose of this study is to improve the performance of high-speed, high-speed, high-speed During the on,off period, as well as during the on,off period, and during the on,off period, the production of the film was overhauled. During the operation, the production of the film was overhauled. In the middle of the production, the growth and growth of the film was overseen. The growth process of fine particles in high-cycle microphones, LLS and SEM microphones are used in this paper. The results show that the nucleation of microparticles grows rapidly, grows rapidly, grows rapidly and grows rapidly in the process of growth and growth, and in the process of rapid growth and growth. In order to reduce the temperature, there are two kinds of fast-growing particles at the same time, and the rapid growth of fine particles agglutinate and agglutinate rapidly. As a result of the above results, the nuclear generation of microparticles is rapidly released before the release of off in the field, and the growth of microparticles inhibits the growth of microparticles.

项目成果

白谷 正治: "Formation processes of Particulates in Helium-Diluted silane RF Plasma" IEEE Trans.Plasma Sci.22. 103-107 (1994)

Masaharu Shiratani：“氦稀释硅烷 RF 等离子体中颗粒的形成过程”IEEE Trans.Plasma Sci.22 (1994)。

川崎 仁晴: "Investigation of particulate growth processes in RF silane plasmas using light absorption and scanning electron microscopic method" Jpn.J.Appl.Phys.33. 4198-4201 (1994)

Hitoshiharu Kawasaki：“使用光吸收和扫描电子显微镜方法研究 RF 硅烷等离子体中的颗粒生长过程”Jpn.J.Appl.Phys.33 4198-4201 (1994)。