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K-C_<60>膜特性へのバイラス効果

K-C_<60>膜特性へのバイラス効果
K-C_<60>病毒对膜性能的影响
批准号:
07780408
负责人:
平田 孝道
金额:
$0.7万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
1995
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1995 至 --

项目摘要

项目成果

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申請備品であるデジタルマルチメーター及びペンレコーダーが納入されてから、K-C_<60>プラズマによる成膜実験を行った。その結果、以下に述べる結果を得ている。(1)赤外吸収分光及びX線マイクロアナライザーによるK-C_<60>膜の組成分析を行った結果、基板に印加するバイアス電圧とプラズマ電位の半径方向分布変化によりプラズマ中心部と周辺部とでは全く異なった膜が形成されており、特に周辺部で形成された膜に関しては均一性の良い膜が得られた。(2)K-C_<60>膜の原子間力顕微鏡による表面観察並びにX線回析による結晶性分析の結果、バイアス電圧が膜厚、結晶構造、表面粗さなどの膜構造に大きな変化を与えることが確認された。更にある一定のバイアス電圧の場合、カリウムとK-C_<60>による電荷移動型錯体化合物(K_3C_<60>、K_4C_<60>)が基板上に形成されていると思われる結果が得られており、このことは以前に測定を行ったバイアス電圧による膜の電気伝導変化と定性的一致がみられた。(3)バイアス電圧によるいカリウム、C_<60>両イオンの選択的な入射エネルギー制御により、原子内包型フラーレンK@C_<60>及びK@C_<58>(カリウム原子がC_<60>、C_<58>の球殻内に内包したもの)を形成することに成功した。さらに原子内包型フラーレンの生成率がバイアス電圧に大きく依存することが判明した。今後の研究展開としては、K-プラズマ専用装置による“その場"測定及び原子内包型フラーレンの高効率生成等を考えている。
期刊论文(5)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
T、 Hirata: "Analysis of K-C_<60> Film Formed on Sabstrates ina K-C_<60> Plasma" Proceedings of the 13th Symposium on Plasma Processing. 161-164 (1995)
T, Hirata:“K-C_<60> 等离子体中在基材上形成的 K-C_<60> 薄膜的分析”第 13 届等离子体加工研讨会论文集 161-164 (1995)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
T、 Hirata: "Analysis of Ion Species in Potassium-Fullerene Plasmas" J. Plasma Fuaim Res.71. 615-619 (1995)
T, Hirata:“钾富勒烯等离子体中的离子种类分析”J. Plasma Fuaim Res.71 (1995)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
T、 Hirata: "Production and Control of K-C_<60> Plasma for Matertal Rrcessing" Dusty Plasmas-95 A workshop・on Goneration, traneport and Remoral of Poyticles in Plosmas. 44- (1995)
T, Hirata:“用于物质处理的 K-C_<60> 等离子体的生产和控制”Dusty Plasmas-95 研讨会·关于 Plasmas 中 Poyticles 的 Goneration、traneport 和 Remoral 44- (1995)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
T、 Hirata: "K^+-C_<60>^- Plasma for Material Processing" IUVSTA International Workshop on Plasma Sources and Surface Jnteractuons in Material Procossing. 34- (1995)
T, Hirata:“K^+-C_<60>^- 用于材料加工的等离子体”IUVSTA 国际材料加工中的等离子体源和表面相互作用研讨会 34- (1995)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
C_<60>プラズマの薄膜生成への応用
  • 批准号:
    06780382
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $0.58万
  • 财政年份:
    1994
  • 负责人:
    平田 孝道
  • 依托单位:
国内基金
海外基金
溶胶凝胶法金刚石薄膜生成及其刀涂覆机理
  • 批准号:
    59475067
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    9.0万元
  • 批准年份:
    1994
  • 负责人:
    王珉
  • 依托单位:
厚度为几个原子层的亚稳态薄膜生成机制的研究
  • 批准号:
    18670706
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    2.0万元
  • 批准年份:
    1986
  • 负责人:
    吴思诚
  • 依托单位: