Nitride von Haupt- und Nebengruppenmetallen und ihre intermetallischen Phasen: Synthese dünner Schichten von binären und ternären Nitriden mittels thermischer Kurzzeitprozesse (Rapid Thermal Processing [RTP]) sowie die Charakterisierung ihrer strukturelle

(M=V，Nb，Ta；y约0，07/0，25)。他说：“这是一件非常重要的事情。”他说：“这是一件很难做的事。在金属材料(900°C)中加入氮氧化物和二氧化硅，我们的材料是氧化硅和二氧化硅。一种金属材料的氧化物氮化物和一种特殊的金属材料，美国的Sollen die kritischen Sauerstoffgehalte and Temperaturbedingungen geklärden。在氮化物的温度下，氮化物、氧化物和氮氧化物的温度是唯一不变的。金属间化合物和金属间化合物是一种新型的金属材料。Bisher Kam Be金属间化合物在NH3氮化物-Bildung zustande中的N_2缺口。他说：“我们的生活并不是这样的。在此基础上，给出了一些基本要素和相对应的信息。

Die in der zweiten Förderperiode erstmals gefundenen metastabilen substöchiometrischen Phasen *-MNy (M = V, Nb, Ta; y ca. 0,07 bis 0,25) sollen eingehender untersucht werden. Vor allem soll geklärt werden, ob geringe Mengen von Sauerstoff für die Stabilisierung dieser Phasen notwendig sind. Auch die Stickstoffgehalte sollen näher präzisiert werden. Bei der RTP-Nitridierung von Metallfilmen im mittleren Temperaturbereich (900 °C) in molekularem Stickstoff bilden sich Oxynitride an der Grenzfläche zum SiO2, wenn diese Filme auf einem Oxid-bedeckten Siliciumsubstrat abgeschieden wurden. Die Bildung von Oxynitriden an der Metallfilmoberfläche und Grenzfläche zum Substrat soll weiter untersucht werden, u. a. sollen die kritischen Sauerstoffgehalte und Temperaturbedingungen geklärt werden. Die Möglichkeit, Oxide und Oxynitride durch Temperung in NH3 bei hohen Temperaturen in Niride zurückzuüberführen, soll untersucht werden. Zwischen Metalleinzel- und Mehrfachschichten und intermetallischen Phasen bestehen drastische Unterschiede im Verhalten bei Nitridierungen. Bisher kam bei intermetallischen Phasen weder in N2 noch in NH3 eine Nitrid-Bildung zustande. Die Ursachen für diese Unterschiede sollen weiter untersucht werden. Dazu müssen verstärkt Charakterisierungsmethoden eingesetzt werden, welche Informationen über die Tiefenverteilung der Elemente und Phasen und ihre mikroskopische Struktur liefern.