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プラズマCVD法による平坦膜の作製と広帯域積層形偏光分離素子への応用

等离子体CVD法制备平面薄膜及其在宽带堆叠偏振分光器件中的应用

基本信息

批准号：
07750397
负责人：
佐藤尚
金额：
$ 0.64万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1995
资助国家：
日本
起止时间：
1995 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

プラズマCVD法による平坦膜の作製光通信で重要な波長1.3μm用の積層形偏光分離素子への応用を目的として、a-Si_1-_xC_xとSiO_2の多層膜の平坦膜作製技術について検討した。多層膜作製には、プラズマCVD装置を用いた。今回は多層膜の境界面の平坦化のため、基板温度とSiO2成膜時における供給ガス流量の最適化をおこなった。基板温度は200℃のとき、平坦で低応力な膜が得られた。また、全ガス流量(SiH_4、CH_4、H_2)に対するH_2流量比を従来より89%まで増やしたとき、平坦性の高い膜が得られることがわかった。広帯域積層形偏光分離素子への応用ここで求めた条件で、多層膜を石英基板上に作製した。各層の厚さは83.5nmとし、500周期(1000層)積層した。作製した多層膜を斜めに切り出し、素子長を66.5μmまで研磨した。波長1.3μmにおいて、光学特性の評価をおこなった。平坦性向上のため、散乱損失を大幅に減少させることができ、損失を以前の約1/10である0.6dB/100μmまで低減できた。偏光分離角は13.8°が得られ、ルチルの2.5倍と大きい値が得られた。また、作製した波長1.3μm用LPSを用いて、平面光導波路集積型光スイッチの基本的な動物実験をおこなった。

The application of multilayer polarization separation element for wavelength 1.3μm in optical communication is important for the fabrication of flat films by CVD method. Multilayer film fabrication and CVD equipment In this paper, the planarization of multilayer film boundary, substrate temperature and SiO2 film formation, supply flow optimization The substrate temperature is 200℃ and the film is flat and low in strength. The total flow rate (SiH_4, CH_4, H_2) is 89% higher than that of H_2. The multi-layer film is fabricated on a quartz substrate under the conditions required for the application of wide-area laminated polarization separation elements. The thickness of each layer is 83.5 nm and the period of 500 layers (1000 layers) is 500 nm. Multilayer films are fabricated by polishing them with a grain length of 66.5μm. Wavelength 1.3μm, optical properties evaluation. Flatness up, scatter loss greatly reduced, loss about 1/10 of the previous 0.6dB/100μm reduced The polarization separation angle is 13.8° and 2.5 times larger than the polarization separation angle. The wavelength of 1.3μm is controlled by LPS, and the wavelength of 1.3μm is controlled by LPS. The wavelength of 1.3 μ m is controlled by LPS.