Energetische Beeinflussung der Schichtmorphologie beim Plasmaspritzen

等离子喷涂过程中能量对层形貌的影响

• 批准号: 5275640
• 负责人: Professor Dr. Erich Lugscheider
• 金额: --
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 1997
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 1996-12-31 至 2003-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5275640?language=en
• 关键词: Energetische; Beeinflussung; der; Schichtmorphologie; beim

Ziel des Forschungsvorhabens ist es mit dem Verfahren des Atmosphärischen Plasmaspritzens (APS), die Zusammenhänge zwischen den Partikeleigenschaften im Flug (Temperatur und Geschwindigkeit) und den resultierenden Substrattemperaturen (zeitliche und örtliche Temperaturgradienten) sowie Temperaturniveau und den entstehenden makroskopischen Schichteigenschaften, E-Modul und Eigenspannungen, zu erforschen. Die gewonnenen Ergebnisse fliessen in ein Modell zur Simulation der Schichtbildung beim Plasmaspritzen ein, welches ermöglichen soll, makroskopische Schichteigenschaften über die Schichtmorphologie respektive Partikeleigenschaften und Substrattemperatur definiert einzustellen. Besonderes Gewicht wird dabei auf den Einfluss der Substrattemperatur gelegt, die neben der Vorwärmung im wesentlichen durch die Prozessparameter (Partikeleigenschaften, - menge, Brennerbewegung, Kühlung, usw.) beeinflußt wird. Das Substrattemperaturniveau und die Temperaturgradienten während der Beschichtung spielen für die Entstehung von Eigenspannungen und bei der Ausbildung der lamellaren Struktur eine maßgebliche Rolle. einen Schwerpunkt stellt in diesem Antrag die Aufnahme der Temperaturgradienten mittels Thermographie und deren Abhängigkeit von den primären Prozessparametern (Partikelgeschwindigkeit, -temperatur, -menge) dar. Aus den Untersuchungen werden die Zusammenhänge zwischen der Temperaturgeschichte des Substrates und den makroskopischen Schichteigenschaften ermittelt, so daß Forderungen an den Verlauf des APS-Beschichtungsprozesses abgeleitet werden können.

Sowie Temperaturniveau and den entstehenn makroskopischen Schichteigenschaften(Tematur And Geschwindigkeit)and den Resultierden Substrataturen(zeitliche undörtliche Temperaturgradienten)Sowie Temperaturniveau and den enten entstehenden makroskopischen Schichteigchaften，E-Modul Eigur Espannungen，zu forerforschen。从模拟到等离子打印的过程中，我们可以看到，从某种意义上讲，这是一种特殊的现象，这是一种特殊的现象。我们的客户需要在较低的温度下工作，并在生产过程参数(Partikeleigenschaften，-Meng.，Brennerbewegung，Kühung，Usw.)比伊夫拉特·威尔德。从底温到温升再到最低温度，再到最低温度和最低温度。从温度和温度的角度来看，这是一项非常重要的工作。在此之前，我们并不是所有人都知道这一点，因此，我们不能在任何情况下都能做到这一点。