液相法による高分子表面へのシリカ膜の選択的コーティング
液相法在聚合物表面选择性涂覆二氧化硅薄膜
基本信息
- 批准号:07750925
- 负责人:
- 金额:$ 0.64万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
- 财政年份:1995
- 资助国家:日本
- 起止时间:1995 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
液相法により常温で有機高分子表面に選択的に緻密なシリカ膜を形成させるための、基板の処理条件、過飽和水溶液の調製条件及び基板の水溶液への浸漬条件を明らかにすることを目的として研究を実施した。テトラエトキシシランを用いたプラズマCVD処理を有機高分子基板の1種であるポリテトラフルオロエチレンに10秒から60秒間行うと、多孔性で緻密性の低いシリカ膜がその表面に生成することがわかった。メタケイ酸ナトリウム・9水和物を蒸留水に溶解し、塩酸を加えてpHを3.0に調整することにより過飽和のケイ酸水溶液を得、これに上記基板を浸漬すると、水溶液中でシリカが成長し、基板表面に緻密で均一なシリカ膜が形成された。したがってテトラエトキシシランを原料に用いたプラズマCVD処理は、過飽和のケイ酸水溶液中で有機高分子基板表面に選択的にシリカ膜を成長させるためのシリカ核の形成に対して有効であることがわかった。次に、g-アミノプロピルトリエトキシシランを用いたシランカップリング処理を有機高分子基板に施した後に上記のプラズマCVD処理を行い、有機高分子基板の表面構造変化をシランカップリング処理をしない場合と比較した。その結果、上記シランカップリング剤を用いたプラズマCVD処理は、過飽和のケイ酸水溶液中で有機高分子基板表面に選択的にシリカ膜を成長させるためのシリカ核の形成に対して有効ではないことがわかった。これは、過飽和のケイ酸水溶液中に存在するシラノール基が、シランカップリング剤を用いたプラズマCVD処理によって生成したシリカ膜のシラノール基と脱水縮合反応することにより、シロキサン結合を形成したためと考えられる。
The liquid-phase method is used to study the formation of dense film on the surface of organic polymer at room temperature, the treatment conditions of substrate, the preparation conditions of supersaturated aqueous solution and the immersion conditions of substrate aqueous solution. CVD treatment of organic polymer substrates in a variety of ways, from 10 seconds to 60 seconds, porous, dense, and low density film formation on the surface. 9. Dissolve the substance in distilled water, adjust the pH to 3.0, obtain supersaturated aqueous solution of hydrochloric acid, immerse the substrate in aqueous solution, and form a dense film on the substrate surface. A thin film is formed on the surface of an organic polymer substrate in a supersaturated acid solution. Next, the organic polymer substrate is treated with CVD, and the organic polymer substrate is treated with CVD. As a result, the CVD treatment of organic polymer substrates in supersaturated aqueous acid solutions has been successfully carried out. In the presence of supersaturated acid solution, there is a reaction of dehydration and condensation.
项目成果
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专著数量(0)
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