金属原子層成長法による高性能X線ミラーの作製
采用金属原子层生长方法制造高性能X射线镜
基本信息
- 批准号:08650028
- 负责人:
- 金额:$ 0.19万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:1996
- 资助国家:日本
- 起止时间:1996 至 1997
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
本研究は、半導体材料のみならず、軟X線多層膜ミラーに必要な更に密度の高い金属材料、とくに遷移金属、及びその化合物薄膜を原子層成長法にて作製することを目指すとともに、波長2-4nmの「水の窓領域」の高反射率多層膜ミラー実現の可能性を探ることを目的としている。本年度の研究実績として1.最適材料の選定「水の窓領域」で良好な光学定数を持つ遷移金属の一つであるMnを含むMnGaと、密度の低いAlPとの組み合わせが多層膜ミラーとして高反射率を持つことを理論計算から見いだした。2.X線ミラーの試作AlP/GaPの原子層成長により波長17nmのX線多層膜ミラーの作製に初めて成功し、原子層成長の有用性を明らかにした。すなわち、原子層成長法は基板表面の凹凸を平坦化し、光学的に良好な平坦な表面が実現できた。原子層単位の結晶成長により多層膜ミラーの反射波長が厳密に制御できることが明らかになった。3.AlP原子層成長の機構解明多層膜ミラーとなる材料のうちAlPの原子層成長の機構を、原子間力顕微鏡による観察から明らかにした。また、その機構から表面形状の制御に成功し、原子レベルで平坦な極めて優れた薄膜を作製できた。現在、MnGaの化学気相成長を試みており、新しい金属材料の原子層成長の可能性を探査している。
This study aims to explore the possibility of the realization of high reflectivity multilayer films in the "water domain" of 2-4nm wavelength by atomic layer growth (ALD) for semiconductor materials and soft X-ray multilayer films with higher density. The results of this year's research are as follows: 1. The selection of the most suitable material "water domain" has good optical stability, the migration of metals, Mn, Mn, Ga, AlP, Mn, Mn, 2. The initial success and usefulness of atomic layer growth of AlP/GaP multilayer films with X-ray wavelength of 17nm were demonstrated. Atomic layer growth method planarizes the unevenness of the substrate surface, and the optical flatness is achieved. The reflection wavelength of the multilayer film is closely controlled by the crystal growth of the atomic layer. 3. The mechanism of AlP atomic layer growth is explained by the mechanism of AlP atomic layer growth and atomic force microscopy. The structure of the film was successfully manufactured, and the flat film was successfully manufactured. At present, the chemical phase growth of MnGa has been investigated, and the possibility of atomic layer growth of new metallic materials has been investigated.
项目成果
期刊论文数量(1)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Masashi Ishii: "Atomic layer epitaxy of AlP and its application to X-ray multilayer mirror" Journal of Crystal Growth. (発表予定).
Masashi Ishii:“AlP 的原子层外延及其在 X 射线多层镜中的应用”《晶体生长》杂志(待出版)。
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