权益分类	功能权益	普通用户	{{item.name}}会员
{{category.name}}	{{benefitItem.name}}

シリカをテンプレート剤とするIVb,Vb族元素の微細構造制御

使用二氧化硅作为模板剂对 IVb 和 Vb 族元素的微观结构控制

基本信息

批准号：
08650924
负责人：
今村成一郎
金额：
$ 1.47万
依托单位：
Kyoto Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
1996
资助国家：
日本
起止时间：
1996 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

チタンをシリカマトリックスに高分散してシリカの配位座をテンプレートとして利用することにより4配位すなわち配位不飽和のチタンを調製することを試みた。XAFS分析によりチタン含量20%以下の場合には効率よく4配位構造のチタンが得られること、この4配位チタンは液相でのオレフィンのエポキシ化反応に活性であることを見出した。アルミナ上にチタンを少量添加した場合、あるいは酸化チタン単身でも低温焼成の場合にはわずかに4配位構造が得られ、エポキシ化活性が認められた。しかし、4配位チタンを効率よく生成する手段はそれぞれのアルコキシドを原料としてチタンをシリカマトリックスにはめ込むことであり、その調製条件を詳細に検討した。ジルコニウムおよびニオブについても同様にシリカテンプレートを利用して配位不飽和状態を作り出すことを試みた。チタンと同様に低含量の場合にジルコニウムニオブも配位不飽和となることがXAFS解析からみとめられた。これら配位不飽和種はエポキシ化活性を有した。しかし、チタンの場合とは異なり、有為のエポキシ化反応が起るのはジルコニウムでは1%以下、ニオブでは5%以下の極めて低含量の場合であり、シリカに対する親和性がチタンよりはかなり劣るためと推定した。

The coordination site is highly dispersed and the coordination site is highly unsaturated. XAFS analysis shows that when the content of the ligand is less than 20%, the activity of the ligand is reduced. In case of small addition, in case of low temperature firing, in case of high temperature firing, in case of low temperature firing, in case of high temperature, in case of high temperature firing, in case of high temperature firing, in case of high temperature, in case of high temperature firing, in case of high temperature firing, in case of high temperature, in case The method for producing the 4-D coordinate system is discussed in detail. The first step is to use the coordination unsaturation state to make the first step. In the case of low content, XAFS analysis is carried out. The coordination unsaturation species has a high activity. In the case of low content, low affinity, low affinity,