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エリプソメトリー、FT-IRを利用したInGaAsP CVDプロセスの解析
使用椭圆光度法和 FT-IR 分析 InGaAsP CVD 工艺
基本信息
- 批准号：98F00244
- 负责人：
- 金额：$ 0.32万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for JSPS Fellows
- 财政年份：1999
- 资助国家：日本
- 起止时间：1999 至 无数据
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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