权益分类	功能权益	普通用户	{{item.name}}会员
{{category.name}}	{{benefitItem.name}}

フレキシブル有機電子デバイスのためのプラズマプロセシング

柔性有机电子器件的等离子体处理

基本信息

批准号：
14750233
负责人：
白藤立
金额：
$ 2.3万
依托单位：
Kyoto University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2002
资助国家：
日本
起止时间：
2002 至 2003
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-14750233/
关键词：
フレキシブル電子デバイスパッシベーション有機・無機ハイブリッドその場フーリエ変換赤外吸収分光プラズマ化学気相堆積プラズマ重合フロロカーボン低誘電率膜有機電子デバイスフレキシブルデバイスプラズマプロセシング

项目摘要

1.パッシベーション膜の高機能化有磯エレクトロルミネセンスデバイスに特徴的な逆テーパ型カソードセパレータに対して、陰の部分も含めたコンフォーマル被覆がプラズマ化学気相堆積法によって可能であることを実証した。しかし、ガスバリア性が不十分であり加速試験により発光デバイスにダークスポットが発生した。これを改善するために、ガスバリア性の高いSi-N結合を導入すべくHexamethyldisilazaneとの共重合を試み、有機・無機ハイブリッド化が可能であることを明らかにした。2.超低誘電率ナノポーラスa-C:F膜の創成高周波伝送デバイスに必要な低誘電率薄膜として空隙含有a-C:F膜の成膜を行った。昨年度は成膜後の加熱を必要としたが、本年度は高温成膜によって成膜直後に誘電率2以下となることを明らかにした。3.FTIRによるプロセスその場診断による反応機構の解明パッシベーションで用いたC_5F_8プラズマでは、付着確率が0.1程度の高次ラジカルが成膜に寄与しているために、陰の部分でさえも被覆することが可能となっていることを明らかにした。低誘電率膜用に用いたC_6F_8については、親分子の構造である6員環構造を保ちつつ成膜に寄与しており、その6員環構造が耐熱性向上に寄与していることを明らかにした。また、偏光解析法とFTIRとの組み合わせによって構築した反射分光法を用いることによって、このようなカーボン系の有機薄膜のプラズマドライエッチングプロセスのその場診断を行い、プロセスモニターツールとして有益であることを明らかにした。4.大気圧プロセスによる有機膜のプロセシングの可能性についてフィラメント放電を生成する誘電体バリア放電において、フィラメントが規則正しく整列することを見いだし、マスクレスエッチングが渇望されている有機薄膜のプロセシングにおいて重要な発見となった。

1. The high functionality of the film has the characteristics of reverse type, reverse type and reverse type. The negative part contains the reverse type and reverse type. The chemical phase deposition method can be used to realize this. The speed limit is not very high. The speed limit is very high. This is a good way to improve the properties of Hexamethyldilazane by introducing Hexamethyldilazane into the system. 2. Low dielectric constant thin films containing a-C:F films are necessary for the formation of ultra-low dielectric constant films containing a-C:F films. Last year, it was necessary to heat up the film. This year, it was necessary to heat up the film. 3. FTIR was used to analyze the reflection mechanism of the film formation in the field diagnosis. The accuracy of C_5F_8 was about 0.1. C_6F_8 is used for low dielectric constant film. The structure of molecular is 6-membered ring structure. The structure of film is heat resistant. The application of polarization analysis and FTIR in the field diagnosis of organic thin films 4. The possibility of organic thin film deposition under high pressure conditions is important for the development of dielectric properties.