课题基金 / 基金详情

プラズマによる表面水素反応の制御を利用した機能性有機分子薄膜の半導体表面での形成

プラズマによる表面水素反応の制御を利用した機能性有機分子薄膜の半導体表面での形成
利用等离子体控制表面氢反应在半导体表面形成功能性有机分子薄膜
批准号:
15760023
负责人:
篠原 正典
金额:
$2.05万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2003
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2003 至 2005

项目摘要

项目成果

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柔軟性に富む有機分子デバイスは、固体物理を原理とする硬いデバイスでは手の届かなかったところにも光を当てることができる。柔らかいデバイスを硬いデバイスと同等に使いこなすためには、集積化が必要である。本研究は、ダイアモンドカーボン(DLC)を土台として、有機物質を集積化することを目指すものである。DLCは炭素・水素で構成される有機分子膜という側面を持つため、有機高分子薄膜との融合性が高い。また、DLCはプラズマ化学気相堆積法により容易に形成できるなどの利点がある。しかし、これまで、DLC形成の反応は複雑であるため、的確で効果的な制御方法が見出せていない。そこで、本研究では、膜が形成される際に大きな役割を果たす表面水素の反応に着目した。この表面水素の反応をプラズマにより制御することで膜形成の制御法を確立し、有機高分子との融合性のよいDLC薄膜を形成することが目的である。プラズマ中での化学種について四重極質量分析器を用いて調べた結果、メタンプラズマでは気相中でも容易に重合が起こりC_2Hx系の重合した化学種が形成される。これらが基板表面に到達し表面でどのように吸着していくのかを多重内部反射型赤外分光法を用いてその場観察を行った。はじめは気相中で生成されたCH_3種が吸着し、表面に、CH_3種を形成する。その後、この吸着種上に気相から新たな-CH_3種が吸着するため、CH_3種がCH_2種に変換し、C-Cの結合が増加していく様子が観察できた。また基板バイアスを加えることにより表面のCH_3種が分解し炭素同士の結合が増強される様子が観察できた。DLCへのDNA等の有機分子の固定化を試みた結果、基板と剥離しないDLCの形成が重要であることがわかり、今後ともDLCの成長過程の制御がますます必要であることがわかった。
期刊论文(23)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Plasma oxidation process of silicon surfaces investigated by infrared spectroscopy
红外光谱研究硅表面的等离子体氧化过程
DOI: --
发表时间: 2005
期刊: Journal of Advanced Oxidation Technologies Vol.8 No.1
影响因子: --
作者: [Masanori Shinohara, Masanori Shinohara, M.Shinohara, 篠原 正典, 柴田泰充, 林 純一, M.Shinohara, H.Shibata, H.Shibata, J.Hayashi, J.Hayashi, Masanori Shinohara 他6名, Masanori Shinohara 他6名]
通讯作者: Masanori Shinohara 他6名
酸素プラズマ中でのSi表面水素の挙動
氧等离子体中硅表面氢的行为
DOI: --
发表时间: 2004
期刊: 表面科学 Vol.25 No.9
影响因子: --
作者: [篠原 正典, 他6名]
通讯作者: 他6名
Masanori Shinohara: "Oxygen-plasma induced hydrogen desorption from hydrogen-terminated Si(100) and (111) surfaces investigated by infrared spectroscopy"Thin Solid Films. (in press). (2004)
Masanori Shinohara:“通过红外光谱研究氧等离子体诱导的氢封端 Si(100) 和 (111) 表面的氢解吸”固体薄膜。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
Masanori Shinohara: "Plasma oxidation process of silicon surfaces investigated by infrared spectroscopy"電気学会研究会資料. PST-03-87〜101. 33(PST-03-93)-36 (2003)
Masanori Shinohara:“通过红外光谱研究硅表面的等离子体氧化过程” PST-03-87~101 33(PST-03-93)-36 (2003)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
22
    Deposition of carbon films due to decomposition of source molecules during pulse plasmas and elucidation of its reactions
    • 批准号:
      23K03372
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $2.91万
    • 财政年份:
      2023
    • 负责人:
      篠原 正典
    • 依托单位:
    A Study on Deposition mechanisms of Amorphous Carbon films with in-situ Multiple-Internal-Reflection Infared Spectroscopy
    • 批准号:
      20K03920
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $2.75万
    • 财政年份:
      2020
    • 负责人:
      篠原 正典
    • 依托单位:
    チューブの中のプラズマプロセス診断技術と膜堆積技術の創製によるチューブの高機能化
    • 批准号:
      18740354
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
    • 资助金额:
      $2.24万
    • 财政年份:
      2006
    • 负责人:
      篠原 正典
    • 依托单位:
    小型鯨類の社会性に関する研究
    • 批准号:
      97J02582
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额:
      $1.34万
    • 财政年份:
      1998
    • 负责人:
      篠原 正典
    • 依托单位:
    海外基金