プラズマによる表面水素反応の制御を利用した機能性有機分子薄膜の半導体表面での形成

利用等离子体控制表面氢反应在半导体表面形成功能性有机分子薄膜

基本信息

  • 批准号:
    15760023
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.05万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 财政年份:
    2003
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2003 至 2005
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

柔軟性に富む有機分子デバイスは、固体物理を原理とする硬いデバイスでは手の届かなかったところにも光を当てることができる。柔らかいデバイスを硬いデバイスと同等に使いこなすためには、集積化が必要である。本研究は、ダイアモンドカーボン(DLC)を土台として、有機物質を集積化することを目指すものである。DLCは炭素・水素で構成される有機分子膜という側面を持つため、有機高分子薄膜との融合性が高い。また、DLCはプラズマ化学気相堆積法により容易に形成できるなどの利点がある。しかし、これまで、DLC形成の反応は複雑であるため、的確で効果的な制御方法が見出せていない。そこで、本研究では、膜が形成される際に大きな役割を果たす表面水素の反応に着目した。この表面水素の反応をプラズマにより制御することで膜形成の制御法を確立し、有機高分子との融合性のよいDLC薄膜を形成することが目的である。プラズマ中での化学種について四重極質量分析器を用いて調べた結果、メタンプラズマでは気相中でも容易に重合が起こりC_2Hx系の重合した化学種が形成される。これらが基板表面に到達し表面でどのように吸着していくのかを多重内部反射型赤外分光法を用いてその場観察を行った。はじめは気相中で生成されたCH_3種が吸着し、表面に、CH_3種を形成する。その後、この吸着種上に気相から新たな-CH_3種が吸着するため、CH_3種がCH_2種に変換し、C-Cの結合が増加していく様子が観察できた。また基板バイアスを加えることにより表面のCH_3種が分解し炭素同士の結合が増強される様子が観察できた。DLCへのDNA等の有機分子の固定化を試みた結果、基板と剥離しないDLCの形成が重要であることがわかり、今後ともDLCの成長過程の制御がますます必要であることがわかった。
The softness and richness of organic molecules, the principles of solid state physics, and the hardness ofてることができる. The soft ones are soft and the hard ones are the same, and the integration is necessary. This research is based on the DLC (DLC) soil platform and the organic matter integration system. DLC is an organic molecular film composed of carbon and hydrogen, which has a strong side profile, and an organic polymer film, which has high fusion properties.また, DLC はプラズマchemical phase deposition method により is easy to form できるなどの利Pointがある.しかし, これまで, DLC formation of の応は曑であるため, なcontrol method that is indeed effective, せていない.そこで、This study is based on the formation of the film and the result of the formation of the film. Establishment of the control method for the formation of surface water-based water-repellent membranesし, Organic polymers and fused DLC films are formed to achieve the same purpose.プラズマ中でのchemical species についてQuadruple polar mass analyzer をいてadjusted べた results, メタンプラズIt is easy to overlap the chemical species in the C_2Hx system, and it is easy to overlap and form chemical species.これらがThe surface of the substrate is reached and the surface is absorbed. The multiple internal reflection type infrared spectroscopy is used to observe the surface.はじめは気中で成されたCH_3 kinds of がsorption し, surface に, CH_3 kinds of をforming する. After その, この sucking kind on に気phase から新たな-CH_3 kinds of が sucking するため, CH_ 3 kinds of CH_2 kinds of に変change し, C-C のcombination がincrease していく様子が観看できた.またSubstrate バイアスを加えることにより surface のCH_3 kinds of が decomposition しcarbon and のcombination がincrease strength される様子が観看できた. DLC is important for the formation of DLC due to the test results of immobilization of organic molecules such as DNA and peeling of the substrate.であることがわかり、The growth process of ともDLC in the future is necessary.

项目成果

期刊论文数量(23)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Plasma oxidation process of silicon surfaces investigated by infrared spectroscopy
红外光谱研究硅表面的等离子体氧化过程
  • DOI:
  • 发表时间:
    2005
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Masanori Shinohara;Masanori Shinohara;M.Shinohara;篠原 正典;柴田泰充;林 純一;M.Shinohara;H.Shibata;H.Shibata;J.Hayashi;J.Hayashi;Masanori Shinohara 他6名;Masanori Shinohara 他6名
  • 通讯作者:
    Masanori Shinohara 他6名
酸素プラズマ中でのSi表面水素の挙動
氧等离子体中硅表面氢的行为
  • DOI:
  • 发表时间:
    2004
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    篠原 正典;他6名
  • 通讯作者:
    他6名
Masanori Shinohara: "Oxygen-plasma induced hydrogen desorption from hydrogen-terminated Si(100) and (111) surfaces investigated by infrared spectroscopy"Thin Solid Films. (in press). (2004)
Masanori Shinohara:“通过红外光谱研究氧等离子体诱导的氢封端 Si(100) 和 (111) 表面的氢解吸”固体薄膜。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Masanori Shinohara: "Plasma oxidation process of silicon surfaces investigated by infrared spectroscopy"電気学会研究会資料. PST-03-87〜101. 33(PST-03-93)-36 (2003)
Masanori Shinohara:“通过红外光谱研究硅表面的等离子体氧化过程” PST-03-87~101 33(PST-03-93)-36 (2003)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Oxygen plasma induced decomposition of BTMSM and HMDSO molecules
氧等离子体诱导 BTMSM 和 HMDSO 分子分解
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    松田 良信
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  • 通讯作者:
    松本 貴士

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