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チタニアとセリア上の極薄金属膜及び金属超微粒子の物性と表面気相反応の過程の研究

二氧化钛和二氧化铈上超薄金属膜和超细金属颗粒物理性质及表面气相反应过程研究

基本信息

批准号：
05J00070
负责人：
岡沢哲晃
金额：
$ 2.11万
依托单位：
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2005
资助国家：
日本
起止时间：
2005 至 2007
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-05J00070/
关键词：
MEIS XPS Au Cluster Metal Oxide 中エネルギーイオン散乱光電子分光金触媒

项目摘要

本研究では、酸化物単結晶基板上Auナノクラスターの成長過程解析を行った。これまで行ってきた解析方法では、クラスターの直径を精度よく決定することが難しかったが、2種類の条件で実験を行い、同時に解析することでより精度よくクラスターの直径を決定することが可能となった。また、クラスターサイズにゆらぎを導入してシミュレーションを行った。酸素欠陥表面TiO2(110)上のAuクラスターは、大気に導入するとクラスターサイズが10%程度大きくなることが明らかになった。NiO(111)/Ni(111)基板上のAuクラスターに関しては、蒸着量1ML以下では2次元成長が優勢であった。これはNiO(001)の場合とほぼ同じ結果になった。光電子分光測定の結果、Au4fは蒸着量が小さいとき、高エネルギー側にシフトした。また仕事関数測定も同時に行い、Auを蒸着すると仕事関数は減少した。この結果はストイキオメトリー表面のTiO2(110)と同じ結果であり、Auクラスターは正に帯電していると考えられる。我々はAuクラスターが正に帯電するとき、COの吸着ポテンシャルが減少し、触媒活性が発現するのではないかと考えた。現在は、実際に触媒活性があるかどうかを調べるため、反応室を立ち上げ中である。また、核反応を利用した軽元素の定量実験を行うため、半導体検出器を設置した。現在はビーム調整を行っている段階である。この核反応を利用して、D20や180の検出を行い、反応室での触媒活性実験と比較することで、より詳細に触媒反応過程を分析する。Auクラスターの帯電の基板依存性を調べるため、SrTi03(001)とAl203/NiA1(110)上のAuクラスターに対して、光電子分光測定を行った。その結果、どちらの表面に対してもAu4fの高エネルギー側へのシフトを観測した。Au4fのシフトは終状態効果の可能性もあるので、出射速度依存性を調べた。その結果、出射エネルギー50eV〜330eVの範囲では、出射速度の依存性が見られなかった。しかし終状態効果の理論的予測は困難で、終状態効果についてはまだはっきりとはわからなかった。Au4fのシフトに対して、仕事関数の変化は顕著な基板依存性が現れた。

In this study, we analyzed the growth process of Au on the crystalline substrate of acid compound. The accuracy of the analysis method is determined by the accuracy of the diameter of the sample. The first step is to open the door to the world. Au on the surface of TiO2 (110) is introduced into the surface of TiO2 (110) to a large extent. Au on NiO(111)/Ni(111) substrate is preferred for 2-dimensional growth when evaporation amount is less than 1ML. NiO(001) is the same as NiO(001). According to the results of optoelectronic spectroscopy, the amount of Au4f evaporation is very small and the surface area is very high. The number of cases is determined by the number of cases The result is TiO2 (110) on the surface. I have a problem with positive charge, CO adsorption, and catalyst activity. Now, the catalyst activity is adjusted, and the reaction chamber is set up. The quantitative analysis of nuclear and chemical elements and the setting of semiconductor detectors Now adjust the stage. The catalyst activity of the reactor is compared with that of the reactor, and the catalyst reaction process is analyzed in detail. The substrate dependence of Au particles on SrTi03 (001) and Al203/NiA1 (110) was adjusted by photoelectron spectroscopy. As a result, the surface of Au4f was measured at the same time. Au4f is a variable in the probability of final state effect and emission velocity dependence. The results show that the range of emission from 50eV to 330eV is different from that of emission velocity. The theoretical prediction of the final state effect is difficult, and the final state effect is difficult. Au4f is a substrate dependent substance.