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多結晶シリコンの組織形成機構の解明および太陽電池用完全配向型多結晶シリコンの作製

多結晶シリコンの組織形成機構の解明および太陽電池用完全配向型多結晶シリコンの作製
多晶硅结构形成机理的阐明及太阳能电池用全取向多晶硅的生产
批准号:
16686001
负责人:
藤原 航三
金额:
$17.39万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
财政年份:
2004
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2004 至 2005

项目摘要

项目成果

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本研究は、太陽電池用高品質Siバルク多結晶の成長技術を開発することを最終目的として行われた。Siバルク多結晶の高品質化を実現するためには、結晶粒方位、粒サイズ、粒界密度などを制御する必要があり、これらを制御するための結晶成長メカニズムを明らかにしなければならない。本研究では、Siバルク多結晶の融液成長過程の直接観察装置を開発し[1]、本装置を用いた成長実験により、Siバルク多結晶の一方向成長初期過程において、デンドライト結晶を成長させる条件を明らかにした。デンドライト結晶は成長速度が速く、結晶粒の粗大化に有効であるだけでなく、デンドライト結晶上面の方位が限られた方位に限定されることから方位制御にも有効であることが判った[2]。この知見をキャスト法に適用したデンドライト利用キャスト成長法を提案した[2]。キャスト法によるSiバルク多結晶インゴットの一方向成長初期過程に、坩堝底面に沿ってデンドライト結晶を成長させることによって、インゴット下部においてデンドライト組織が形成される。これらのデンドライト結晶上面の方位は(112)面または(110)面に揃っており、このデンドライト組織上にバルク多結晶を成長させることによって、方位および粒サイズが制御された高品質Siバルク多結晶インゴットが得られた。このインゴットを用いて作製した太陽電池の変換効率は、従来のキャスト法で作製したSiバルク多結晶の太陽電池の変換効率を上回ることを実証した[3]。[1]K. Fujiwara et al. J. Crystal Growth,262(2004),124.[2]K. Fujiwara et al. J. Crystal Growth (in press).[3]K. Fujiwara et al. Acta Materialia (in press).
期刊论文(4)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI: --
发表时间: 2006
期刊: Acta Materialia (印刷中)
影响因子: --
作者: [M.Yamato, el.al, Editerd by N.Naga, Shigeru Suzuki, Katsuya Inoue, Shigeru Suzuki, Kiyoshi Kanie, Sang-Koo Kwon, Sang-Koo Kwon, Sang-Koo Kwon, Kiyoshi Kanie, Kiyoshi Kanie, 蟹江 澄志, 蟹江 澄志, 蟹江 澄志, 蟹江 澄志, 蟹江 澄志, S.Saito, S.Saito, S.Saito, 斎藤 進, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, K.Fujiwara et al.]
通讯作者: K.Fujiwara et al.
半導体バルク多結晶の作製方法
半导体块状多晶的制造方法
DOI: --
发表时间: 2005
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
DOI: --
发表时间: 2006
期刊: J.Crystal Growth (印刷中)
影响因子: --
作者: [M.Yamato, el.al, Editerd by N.Naga, Shigeru Suzuki, Katsuya Inoue, Shigeru Suzuki, Kiyoshi Kanie, Sang-Koo Kwon, Sang-Koo Kwon, Sang-Koo Kwon, Kiyoshi Kanie, Kiyoshi Kanie, 蟹江 澄志, 蟹江 澄志, 蟹江 澄志, 蟹江 澄志, 蟹江 澄志, S.Saito, S.Saito, S.Saito, 斎藤 進, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, K.Fujiwara et al., K.Fujiwara et al.]
通讯作者: K.Fujiwara et al.
Structural properties of directionally grown Polycrystalline SiGe for solar cell
太阳能电池用定向生长多晶硅锗的结构特性
DOI: --
发表时间: 2005
期刊: Journal of Crystal Growth 274・3-4
影响因子: --
作者: [M.Yamato, el.al, Editerd by N.Naga, Shigeru Suzuki, Katsuya Inoue, Shigeru Suzuki, Kiyoshi Kanie, Sang-Koo Kwon, Sang-Koo Kwon, Sang-Koo Kwon, Kiyoshi Kanie, Kiyoshi Kanie, 蟹江 澄志, 蟹江 澄志, 蟹江 澄志, 蟹江 澄志, 蟹江 澄志, S.Saito, S.Saito, S.Saito, 斎藤 進, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, K.Fujiwara et al., K.Fujiwara et al., K.Fujiwara et al.]
通讯作者: K.Fujiwara et al.
その場観察法による各種半導体材料の固液界面不安定化現象の解明と高温物性値の決定
  • 批准号:
    21H04658
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 资助金额:
    $27.29万
  • 财政年份:
    2021
  • 负责人:
    藤原 航三
  • 依托单位:
電場印加による結晶成長界面の形状制御法の確立と薄板結晶Siの成長技術への応用
  • 批准号:
    22656001
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 资助金额:
    $2.11万
  • 财政年份:
    2010
  • 负责人:
    藤原 航三
  • 依托单位:
ファセットデンドライト成長を利用した高品質薄板多結晶シリコンの成長技術の開発
  • 批准号:
    21686001
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $17.39万
  • 财政年份:
    2009
  • 负责人:
    藤原 航三
  • 依托单位:
方位・粒界・粒サイズを制御した太陽電池用バルク多結晶シリコンの成長技術の確立
  • 批准号:
    18686060
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $19.05万
  • 财政年份:
    2006
  • 负责人:
    藤原 航三
  • 依托单位:
海外基金