课题基金 / 基金详情

方位・粒界・粒サイズを制御した太陽電池用バルク多結晶シリコンの成長技術の確立

方位・粒界・粒サイズを制御した太陽電池用バルク多結晶シリコンの成長技術の確立
建立具有受控取向、晶界和晶粒尺寸的太阳能电池块状多晶硅生长技术
批准号:
18686060
负责人:
藤原 航三
金额:
$19.05万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
财政年份:
2006
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2006 至 2007

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
本研究の目的は、方位・粒界・粒サイズが制御された太陽電池用Siバルク多結晶インゴットの成長技術を確立することである。具体的には、申請者らが発案した「デンドライト利用キャスト法」により従来の多結晶よりも高品質な結晶を得ることである。本成長方法では、一方向成長の初期過程に坩堝底面に沿ってファセットデンドライトを成長させることが最も重要になる。本研究では、Siの融液成長過程のその場観察実験により、ファセットデンドライトが成長するための条件である、平行双晶の形成機構を明らかにし、さらにファセットデンドライトが成長するために必要な過冷却度を定量的に明らかにした。これらの基礎実験により得られた結果をデンドライト利用キャスト法の成長条件ヘフィードバックすることにより、15cmφのインゴットの成長において、成長初期に坩堝底面に沿ってファセットデンドライトを効果的に発現させるための条件を取得した。実際に、市販のSi多結晶と比較して、結晶方位が一方向に揃い、結晶粒サイズが大きく、Σ3対応粒界が多いSiバルク多結晶を得ることに成功した。この多結晶を用いて作製した太陽電池は、市販の多結晶太陽電池の変換効率を上回る特性を示した。さらに、従来の方法では結晶の品質が低下するインゴット上部においても高品質な結晶性を維持しており、歩留まりの向上に対しても有効な成長技術であることが証明された。この結果により、デンドライト利用キャスト法の実用大型装置への展開が現実味を帯びてきた。
英文摘要
本研究の目的は、方位・粒界・粒サイズが制御された太陽電池用Siバルク多結晶インゴットの成長技術を確立することである。具体的には、申請者らが発案した「デンドライト利用キャスト法」により従来の多結晶よりも高品質な結晶を得ることである。本成長方法では、一方向成長の初期過程に坩堝底面に沿ってファセットデンドライトを成長させることが最も重要になる。本研究では、Siの融液成長過程のその場観察実験により、ファセットデンドライトが成長するための条件である、平行双晶の形成機構を明らかにし、さらにファセットデンドライトが成長するために必要な過冷却度を定量的に明らかにした。これらの基礎実験により得られた結果をデンドライト利用キャスト法の成長条件ヘフィードバックすることにより、15cmφのインゴットの成長において、成長初期に坩堝底面に沿ってファセットデンドライトを効果的に発現させるための条件を取得した。実際に、市販のSi多結晶と比較して、結晶方位が一方向に揃い、結晶粒サイズが大きく、Σ3対応粒界が多いSiバルク多結晶を得ることに成功した。この多結晶を用いて作製した太陽電池は、市販の多結晶太陽電池の変換効率を上回る特性を示した。さらに、従来の方法では結晶の品質が低下するインゴット上部においても高品質な結晶性を維持しており、歩留まりの向上に対しても有効な成長技術であることが証明された。この結果により、デンドライト利用キャスト法の実用大型装置への展開が現実味を帯びてきた。
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI: 10.1016/j.scriptamat.2007.03.052
发表时间: 2007-07
期刊: Scripta Materialia
影响因子: 6
作者: [K. Fujiwara;K. Maeda;N. Usami;G. Sazaki;Y. Nose;K. Nakajima]
通讯作者: K. Fujiwara;K. Maeda;N. Usami;G. Sazaki;Y. Nose;K. Nakajima
太陽電池用高品質Siバルク多結晶インゴットの成長技術の開発
太阳能电池用高品质硅块多晶硅锭生长技术开发
DOI: --
发表时间: 2007
期刊:
影响因子: --
作者: [藤原航三, 他]
通讯作者:
DOI: 10.1016/j.actamat.2008.01.038
发表时间: 2008-06
期刊: Acta Materialia
影响因子: 9.4
作者: [K. Fujiwara;K. Maeda;N. Usami;G. Sazaki;Y. Nose;A. Nomura;T. Shishido;K. Nakajima]
通讯作者: K. Fujiwara;K. Maeda;N. Usami;G. Sazaki;Y. Nose;A. Nomura;T. Shishido;K. Nakajima
DOI: --
发表时间: 2006
期刊: Acta Materialia (印刷中)
影响因子: --
作者: [M.Yamato, el.al, Editerd by N.Naga, Shigeru Suzuki, Katsuya Inoue, Shigeru Suzuki, Kiyoshi Kanie, Sang-Koo Kwon, Sang-Koo Kwon, Sang-Koo Kwon, Kiyoshi Kanie, Kiyoshi Kanie, 蟹江 澄志, 蟹江 澄志, 蟹江 澄志, 蟹江 澄志, 蟹江 澄志, S.Saito, S.Saito, S.Saito, 斎藤 進, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, S.Saito, K.Fujiwara et al.]
通讯作者: K.Fujiwara et al.
その場観察法による各種半導体材料の固液界面不安定化現象の解明と高温物性値の決定
  • 批准号:
    21H04658
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 资助金额:
    $27.29万
  • 财政年份:
    2021
  • 负责人:
    藤原 航三
  • 依托单位:
電場印加による結晶成長界面の形状制御法の確立と薄板結晶Siの成長技術への応用
  • 批准号:
    22656001
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 资助金额:
    $2.11万
  • 财政年份:
    2010
  • 负责人:
    藤原 航三
  • 依托单位:
ファセットデンドライト成長を利用した高品質薄板多結晶シリコンの成長技術の開発
  • 批准号:
    21686001
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $17.39万
  • 财政年份:
    2009
  • 负责人:
    藤原 航三
  • 依托单位:
デンドライト成長を利用した完全配向半導体バルク多結晶の成長技術の開発
  • 批准号:
    17656223
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 资助金额:
    $1.79万
  • 财政年份:
    2005
  • 负责人:
    藤原 航三
  • 依托单位:
海外基金