吸着原子の流れによるステップ列の形態不安定性
由于吸附原子流导致阶梯系列的形态不稳定
基本信息
- 批准号:17740251
- 负责人:
- 金额:$ 1.73万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份:2005
- 资助国家:日本
- 起止时间:2005 至 2007
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
結晶表面上を拡散する原子がステップ位置で固化・融解する。直線ステップが等間隔にならぶ微斜面では,結晶の成長・融解に伴い,ステップが束状になるバンチングや,直線ステップが不安定になる蛇行が起きる.本研究では,シリコン(111)7×7構造および1×1構造共存微斜面を念頭に置いて,これらの不安定化について調べた。Si(001)微斜面では,キンクが多い荒れたステップとキンクが少ない直線的なステップが交互に現れる。このキンク密度は,ステップでの固化・融解の頻度,カイネティク係数に差を生じると考えられる。この効果を取り入れて,線形安定性解析およびモンテカルロ・シミュレーションによりステップの挙動を調べた。その結果,差があることで,成長時および昇華時ともに,微斜面上でのステップが対生成を起こすことがわかった。さらに,生成された対はバンチングを起こすことも分かった。対は蛇行に対しては安定であることも分かった。この成果はEur. Phys. J. Bに発表済みである。7×7構造および1×1構造が共存するSi(111)微斜面については,2つの構造の拡散係数の差に着目したモデルを用いてモンテカルロ・シミュレーションを行い,吸着原子の流れがある系でのステップの挙動について調べた。その結果,流れの向きによらずステップがバンチングを起こすことと,下段向きにステップの蛇行が起きることがわかった。さらに,ドリフト流が強くなると.一度形成された束からステップの離脱が起きるが,これは束と束との間の大きなテラスでの吸着密度の分布から理解されることがわかった。下段向きの吸着原子の流れがある場合には,離脱したステップは後退するが,これはテラス上での吸着原子密度が微斜面での平衡密度以下になっているためである。また上段向きの流れがある場合には,前進するが,これは密度が高くなっているためであることがわかった。従って,昇華もしくは成長させることで,ステップの離脱を抑えて,平坦で広いテラスを作成することができることが分かった。以上の結果は,J. Phys. Soc. Jpnに発表済みである。
The atoms dispersed on the crystal surface solidify and melt at different positions. Straight lines are evenly spaced and slightly inclined, crystal growth and melting accompany, straight lines are bunched, straight lines are unstable and snake. In this study, the idea of blue-shift micro-slope in the structure of <$ri n (111)7×7 and 1×1 was put into the middle of the study, and the instability of the structure was also put into the middle of the study. Si(001) micro-inclined plane The density, solidification, melting frequency, coefficient difference, etc. The linear stability analysis is based on the linear stability analysis. As a result, the difference between growth and sublimation occurs, and the difference between growth and sublimation occurs on a microslope. In addition, this is the beginning of the formation of a joint venture. The snake is moving. Eur. Phys. J. B.. 7×7 structure and 1×1 structure are blue-shifted Si(111) micro-slope, and the difference of dispersion coefficient of 2 × structure is significant. As a result, the flow direction is from the beginning to the end, and the flow direction is from the beginning to the end. Today, the flow is strong. Once formed, the adsorption density distribution of the particles was analyzed. The adsorption atom density in the lower part is below the equilibrium density in the upper part. The upper part of the river flows forward, and the upper part of the river flows forward. The first step is to create a smooth and smooth environment. J. Phys. Soc. Jpn.
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Effect of step permeability on step instabilities due to alternation of kinetic coefficients on a growing vicinal face
由于生长的邻面动力学系数的变化,阶梯渗透率对阶梯不稳定性的影响
- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:M.Mine;T.Koide;M.Okumura;Y.Yamanaka;M. Sato
- 通讯作者:M. Sato
Effect of Two-Dimensionality on Step Bunching on a Si (001) Vicinal Face
二维性对 Si (001) 邻面台阶聚束的影响
- DOI:
- 发表时间:2006
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:M. Mine;M. Okumura;T. Sunaga;and Y. Yamanaka;Masahide Sato
- 通讯作者:Masahide Sato
Drift-induced step instabilities on Si(111) vicinal face near 1×1 ⇔ 7x7 Transition temperature
Si(111) 邻面上 1×1 ⇔ 7x7 转变温度附近漂移引起的阶跃不稳定性
- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H.Enomoto;M.Okumura;Y.Yamanaka;K. Ikawa M. Sato M. Uwaha
- 通讯作者:K. Ikawa M. Sato M. Uwaha
シリコン(001)微斜面でのステップパターン形成
硅 (001) 邻近表面上的台阶图案形成
- DOI:
- 发表时间:2006
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Y. Nakamura;M. Mine;M. Okumura;and Y. Yamanaka;佐藤正英
- 通讯作者:佐藤正英
Evaporation and impingemnnt effects on drift-induced step instabilities on a Si(001) vicinal face
蒸发和冲击对 Si(001) 邻面漂移引起的阶跃不稳定性的影响
- DOI:
- 发表时间:2005
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Y. Nakamura;M. Mine;M. Okumura;and Y. Yamanaka;佐藤正英;Masahide Sato
- 通讯作者:Masahide Sato
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