Quasi-ballistic transport modeling of emerging MOSFETs with new channel materials and new device architectures
采用新沟道材料和新器件架构的新兴 MOSFET 的准弹道输运建模
基本信息
- 批准号:18560334
- 负责人:
- 金额:$ 2.63万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2006
- 资助国家:日本
- 起止时间:2006 至 2009
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
This project focused on the development of a quantum mechanical design tool and a device design guideline to realize ultra-high performance information technology by introducing new channel materials and new device architectures. We found that an optimum structural design of source and drain electrodes is necessary for III-V MOSFETs to outperform the conventional Si-MOSFETs. Furthermore, in Si nanowire MOSFETs with gate-all-around architecture, the source-drain tunneling effects were found to possibly limit the further downscaling below 10nm gate length.
该项目的重点是开发量子力学设计工具和器件设计指南,通过引入新的通道材料和新的器件结构来实现超高性能信息技术。我们发现,一个最佳的源极和漏极的结构设计是必要的III-V MOSFET优于传统的Si-MOSFET。此外,在硅纳米线MOSFET与栅极全包围架构,源漏隧穿效应被发现可能限制进一步缩小低于10 nm的栅极长度。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
極薄Ge-on-Insulator(GOI)n-チャネルMOSFETの電流駆動力
超薄绝缘体上Ge (GOI) n沟道MOSFET的电流驱动功率
- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:東 祐介;森 隆志;土屋 英昭
- 通讯作者:土屋 英昭
バリスティック輸送がSi-MOSFETのオフ電流に与える影響
弹道输运对 Si-MOSFET 断态电流的影响
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:山田吉宏;土屋英昭;小川真人
- 通讯作者:小川真人
Comparative study on drive current of III-V semiconductor, Ge and Si channel n-MOSFETs based on quantum-corrected Monte Carlo simulation
- DOI:10.1109/tnano.2007.915002
- 发表时间:2008-03-01
- 期刊:
- 影响因子:2.4
- 作者:Mori, Takashi;Azuma, Yusuke;Miyoshi, Tanroku
- 通讯作者:Miyoshi, Tanroku
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