シリコン表面上のマンガンとアンチモンの共吸着構造とその表面磁性の研究

硅表面锰、锑共吸附结构及其表面磁性研究

• 批准号: 06J09776
• 负责人: 東 相吾
• 金额: $ 1.79万
• 依托单位: Kyushu University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for JSPS Fellows
• 财政年份: 2006
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2006 至 2008
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-06J09776/
• 关键词: 低速電子線回折(LEED); 表面シリサイド; マンガン; アンチモン; 低速電子回折; 走査型トンネル顕微鏡; シリコン; シリサイド

Si(111)上のMnの蒸着量を低速電子線を用いて精度よく見積もる方法を考案し、原子レベルで平坦な超薄膜の作製に成功した。以下詳細を述べる。Mnを室温蒸着後、熱処理すると、(√<3>×√<3>)R30°表面規則構造(MnSi超薄膜)が形成する。これまで作製されているMnSi超薄膜は、薄膜の高さ(厚み)に分布があり、原子レベルで平坦な表面ではなかった。そこで本研究では、原子レベルで平坦なMnSi超薄膜作製のため、MnSi超薄膜に由来する1/3次のLEEDスポットの強度を「蒸着量」と「熱処理温度」を変えながら測定し、スポット強度が最大になる条件を調べた。単独蒸着では3ML蒸着後に250□で加熱することで、LEEDスポット強度が最大を示した。STMを用いて表面を観察したところ、約8割が原子レベルで平坦な秩序度の高いMnSi薄膜であった。この条件で作製した表面のバンド分散を、東大物性研柿崎グループと協力しフォトンファクトリーBL18Aで測定した。一方で、九大の理論グループと協力してMnsi(B20)型モデルで第一原理密度汎関数法(VASP)により計算した結果と実験結果と比較した。両者の一致度の良いことから、MnSi超薄膜はB20型であると結論した。原子レベルで平坦な、層分布の少ない表面を得る方法の確立に成功したので、その表面磁性を分子科学研究所横山GのXMCD装置を用いて評価した。7T(テスラ)、5KにおいてMn量10MLの超薄膜は明確なMCDシグナルを示した。磁化容易軸が面内にあることが明らかになった。

の Mn の steamed on Si (111) quantity を low-speed electronic line を い て precision よ く see product も を test case し る method, atomic レ ベ ル で flat な ultrathin membrane の cropping に successful し た. The following details を describe べる. Mn を at room temperature after steamed, hot 処 す る と, < 3 > < 3 > x ())) R30 ° rules of surface structure (MnSi ultrathin membrane) が form す る. こ れ ま で cropping さ れ て い る MnSi ultrathin membrane は, high film の さ (thick み) に distribution が あ り, atomic レ ベ ル で な flat surface で は な か っ た. そ こ で this study で は, atomic レ ベ ル で flat な MnSi の the ultrathin membrane cropping た め, MnSi ultrathin membrane に origin す る 1/3 time の LEED ス ポ ッ ト の strength を "steamed quantity" と "temperature of hot 処 rationality" を - え な が ら し, ス ポ ッ ト が maximum strength に な る conditions を adjustable べ た. 単 alone the steamed で は after 3 ml steamed に 250 - heating で す る こ と で, LEED ス ポ ッ ト が を biggest strength in し た. STM を with い て surface を 観 examine し た と こ ろ, about 8 cut が atomic レ ベ ル で flat な high degree of order の い MnSi film で あ っ た. で こ の conditions for making し た surface の バ ン ド scattered を, neusoft property research persimmon battery グ ル ー プ と together し フ ォ ト ン フ ァ ク ト リ ー BL18A で determination し た. Party で, nine big の theory グ ル ー プ と together し て Mnsi (B20) モ デ ル で first principles density masato method (VASP) に よ り computing し と た results be 験 results と し た. The two sides have a good <s:1> consistency of と と ら, MnSi ultrathin films of <s:1> B20 type であると, and the conclusion is た た. Atomic レ ベ ル で flat な, less distribution の な い surface を に の る method established successful し た の で, そ の surface magnetic を institute of molecular science hengshan G の を XMCD device with い て review 価 し た. 7T(テスラ), 5Kにお て てMn in 10ML of <s:1> ultrathin film にお clearly なMCDシグナ を を shows た. Magnetization is prone to occur within the が plane of the にある とが とが とが and ら ら になった.

项目成果

Study of Si (111)-(√<3> √<3>) R30°-Mn by ARPES

Si (111)-(√<3> √<3>) R30°-Mn的ARPES研究

• 发表时间: 2008
• 期刊: Activity Report of Synchrotron Radiation Laboratory ISSP (2007) 1
• 作者: Shougo Higashi;Hiroshi Tochihara;Hisashi Yoshida;Ayumi Harasawa;Akito Kakizaki;Taichi Okuda
• 通讯作者: Taichi Okuda

Growth of ultra-thin MnSi films on Si (111) surface : Monte Carlo simulation

Si(111)表面超薄MnSi薄膜的生长：蒙特卡罗模拟

• 发表时间: 2008
• 期刊: e-J. Surf. Sci. Nanotech. 6
• 作者: P. Kocan;S. Higashi;H. Tochihara
• 通讯作者: H. Tochihara

Flat MnSi ultra-thin films on the Si(111) surface

Si(111)表面平坦的MnSi超薄膜

• 发表时间: 2008
• 作者: Shougo Higashi;Yuichi Ikedo;Pavel Kocan;Hiroshi Tochihara
• 通讯作者: Hiroshi Tochihara

Epitaxially grown flat MnSi ultrathin film on Si(111)

Si(111) 上外延生长平坦 MnSi 超薄膜

• 发表时间: 2008
• 期刊: Applied Physics Letters 93
• 作者: Shougo Higashi;Yuichi Ikedo;Pavel Kocan;Hiroshi Tochihara
• 通讯作者: Hiroshi Tochihara

Surface alloy model of p(2x 2)Sb/Cu(001) from LEED I/V data

来自 LEED I/V 数据的 p(2x 2)Sb/Cu(001) 表面合金模型

• 发表时间: 2008
• 期刊: Surface Science 602
• 作者: Shougo Higashi;Hiroshi Tochihara;Valentin L. Shneerson;Dilano K. Saldin
• 通讯作者: Dilano K. Saldin