A new technological development for functional ceramic coatings by solution-spraying thermal plasma CVD under controlled atmospheres

可控气氛溶液喷涂热等离子体CVD功能陶瓷涂层新技术进展

• 批准号: 18360307
• 负责人: SHIMADA Shiro
• 金额: $ 11.14万
• 依托单位: Hokkaido University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• 财政年份: 2006
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2006 至 2008
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-18360307/
• 关键词: 機能性セラミックス; 雰囲気制御; 熱プラズマ; CVD; 機能性; セラミックス; コーティング; 耐磨耗性; 複合膜

現在、塩化物ガスを使用した熱CVD法でWC-Co超硬上へ様々なセラミックスコーティングが施され、工業的に切削工具として使用されている。この成膜法は、比較的高いコーティング温度(~1050℃)によるWC-Coの劣化、塩化物ガスによる環境汚染などの問題点がある。著者は、比較的安価で取り扱いが容易でしかも環境に易しいアルコキシド溶液を熱プラズマ中へ噴霧する新規なコティング法を開発し、低温(<800℃)で窒化物・炭化物・ホウ化物・酸化物の単相膜、複合膜、多層膜などを作製した。これらのコーティング膜は市販のTiNや二層膜TiN/Al_2O_3と比較しても同程度かより優れた耐摩耗性を示した。

Nowadays, the chemical compound ガスを uses the thermal CVD method and WC-Co super hard coating is used.ミックスコーティングが时され, industrial cutting tools and として use されている. The film-forming method is a relatively high temperature (~1050°C), which is a deterioration of WC-Co, and the environmental pollution caused by chemical compounds is a problem. Author は、Comparison of the safe and comfortable environment We manufacture single-phase films, composite films, and multi-layer films using low-temperature (<800°C) sulfides, carbonized compounds, carbonized compounds, and acidified compounds. The two-layer TiN/Al_2O_3 TiN/Al_2O_3 film commercially available on the market has the same degree of excellent wear resistance.

项目成果

Coatings and microstructures of monolithic TiB2 films and double layer and composite TiCN/TiB2 films from alkoxide solutions by thermal plasma CVD

• DOI: 10.1016/j.tsf.2007.11.093
• 发表时间: 2008-08
• 期刊: Thin Solid Films
• 影响因子: 2.1
• 作者: S. Shimada;M. Takahashi;H. Kiyono;J. Tsujino

熱プラズマCVD 法によるTiB_2-SiNx二層膜の作製とその耐摩耗性評価

热等离子体CVD法制备TiB_2-SiNx双层薄膜及其耐磨性评价

• 发表时间: 2006
• 作者: 藤祐輔;嶋田志郎;清野肇
• 通讯作者: 清野肇

Deposition and wear resistance of Ti–B–N–C coatings on WC–Co cutting tools from alkoxide solutions by thermal plasma CVD

• DOI: 10.1016/j.surfcoat.2007.01.041
• 发表时间: 2007-05
• 期刊: Surface & Coatings Technology
• 影响因子: 5.4
• 作者: S. Shimada;M. Takahashi;J. Tsujino;Isao Yamazaki;K. Tsuda

Synthesis of Al2O3–SiO2 Films by Ar/O2 Plasma‐Enhanced CVD from Alkoxide Precursors

• DOI: 10.1002/cvde.200504223
• 发表时间: 2006-05
• 期刊: Chemical Vapor Deposition
• 作者: Yuan-shi Li;S. Shimada;A. Hirose

熱プラズマCVD法によるTiBC,TiBN,SiNx単層膜とTiBC-SiNxとTiBN-SiNx二層膜の作製とその耐摩耗性評価

热等离子体CVD法制备TiBC、TiBN、SiNx单层薄膜和TiBC-SiNx、TiBN-SiNx双层薄膜及其耐磨性评价

• 发表时间: 2007
• 期刊: 粉体粉末冶金協会誌 54
• 作者: 藤 祐輔;嶋田 志郎;清野 肇
• 通讯作者: 清野 肇