高クヌッセン数流れにおける気体分子-固体表面間相互作用の解析
高クヌッセン数流れにおける気体分子-固体表面間相互作用の解析
批准号:
18769002
负责人:
山口 浩樹
金额:
$2.05万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2006
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2006 至 2007
中文摘要
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英文摘要
気体分子-固体表面間相互作用に関し,実験及び数値解析より解析を行った.まず,気体分子-固体表面間相互作用の実験的解析手法である分子線散乱実験に着目した.相互作用を明らかにするためにはプローブとなる分子線そのものの状態を明らかにすることが必要不可欠である.そこで,窒素分子線そのものについての回転エネルギー分布を明らかにするため,共鳴多光子イオン化(REMPI)法を用いて計測した.その結果,スペクトルの取得に成功し,回転温度と並進温度の非平衡現象が明らかとなった.さらに,平衡状態である場合に従うはずのボルツマン分布から回転エネルギー分布が逸脱している可能性を示した.次に,相互作用の中でも特にエネルギー移動に着目し,固体表面におけるエネルギー適応係数の取得実験を行った.エネルギー適応係数は気体分子が固体表面とエネルギー交換をする度合を表しており,Pt-Ar系において非常に簡便な方法での測定を実現した.そして,古典分子動力学法を用いた数値解析により,分子線散乱実験のようにある特定の入射条件に従う場合と,エネルギー適応係数取得実験のように入射分子が分布を持っている場合の関連性について調べた.その結果,気体分子の運動は固体表面法線方向と接線方向に分離することができ,特定の入射条件の結果からバルクの物理量であるエネルギー適応係数へと関連付けることができることを示した.最後に,気体分子-固体表面間相互作用を応用例としての感圧塗料の測定原理について,気体分子運動論の立場から考察を行った.高クヌッセン数流れに適用する場合,実用上,感圧塗料の輝度は気体分子が固体表面に与える力積から求めた圧力に従うことを明らかにした.
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高クヌッセン数流れにおける感圧塗料の適用についての一考察
压敏涂料在高努森数流中的应用研究
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
影响因子:
--
作者:
[社河内敏彦, 西尾昌洋, 松本正, 辻本公一, 安藤俊剛, Koshi Adachi, T.Yamaguchi, 山口 浩樹]
通讯作者:
山口 浩樹
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
影响因子:
--
作者:
[社河内 敏彦, 他4名, H. Yamaguchi]
通讯作者:
H. Yamaguchi
Inhomogeneous Decomposition of Ultrathin Oxide Fims on Si(100): Application of Avrami Kinetics to Thermal Desoration Spectra
Si(100) 上超薄氧化膜的不均匀分解:Avrami 动力学在热解离谱中的应用
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
Journal of Chemical Physics (印刷中)
影响因子:
--
作者:
[I. Kinefuchi, S. Takagi, Y. Matsumoto, H. Yamaguchi, Y. Sakiyama]
通讯作者:
Y. Sakiyama
感圧塗料の測定原理についての一考察
压敏涂料测量原理的研究
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
日本機械学会論文集B編 73-725
影响因子:
--
作者:
[山口 浩樹, 松田 佑, 森 英男, 新美 智秀]
通讯作者:
新美 智秀
白金ポルフィリン錯体を用いた感圧分子膜の開発
使用铂卟啉络合物开发压敏分子膜
DOI:
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发表时间:
2008
期刊:
日本機械学会論文集B編 74-738
影响因子:
--
作者:
[松田 佑, 森 英男, 山口 浩樹, 坂崎 良樹, 内田 徹, 新美 智秀]
通讯作者:
新美 智秀
共 6 条
Exploration of surface nano structures to control micro thermal flow fields in the high Knudsen number regime
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批准号:21K03853
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.66万
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财政年份:2021
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负责人:山口 浩樹
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依托单位:
表面触媒反応の量子分子動力学的解析
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批准号:04J10106
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.47万
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财政年份:2004
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负责人:山口 浩樹
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依托单位:
プラズマプロセッシングにおける非平衡希薄気体流れ
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批准号:01J06107
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.92万
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财政年份:2001
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负责人:山口 浩樹
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依托单位:
海外基金