高精度X線ミラー作製のためのナノ精度表面形状転写法の開発

开发用于制造高精度X射线镜的纳米精度表面形状转移方法

• 批准号: 18760100
• 负责人: 三村 秀和
• 金额: $ 2.05万
• 依托单位: Osaka University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2006
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2006 至 2007
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-18760100/
• 关键词: 電鋳; X線ミラー; ナノ精度; 転写; 表面

本研究では、高精度に平滑化された表面を転写により実現することを目的とし、具体的には、ナノメートルの表面粗さが要求されるX線ミラーの転写による作製を目指した。本プロセスは電鋳法をベースとしており、昨年度準備した電析実験装置を用いた基礎的検討を実施した。・ 電極層形成条件の検討電極層形成におけるバインダー層のCrの量を全反射蛍光X線分析により定量的に調査を実施し、Cr量を精密に調整することで、良好な剥離条件を見出した。・ 金属析出条件の検討良好な平滑転写表面の実現を目的に、Ni金属析出条件と電極層形成条件の精密な探索を実施した。金属析出条件の詳細な調査をするためにピコアンメーターとエレクトロメーターによる精密電流、電圧、測定を実施した。その結果、標準電極基準による電圧を決定することが可能となった。その結果、マスター表面と同等の転写表面を得る事に成功し、さらにEEMにより平滑化された表面の転写を実施し、1μmx1μm四方において、RMS0.1nmレベルの平滑表面を得ることを確認した。・ 各種マスター表面を用いた転写表面の粗さ評価マスター基板として、Siウエハーと石英ガラスを用いた。Siの場合は、Niシリサイド層が形成されており、時間経過とともに剥離することが困難であることがわかった。その結果、マスターとしては、石英ガラス表面を洗濯した。マスターを2回使用しても、マスター表面の粗さは変わらず、2回目の転写表面に関しても、良好な表面粗さを確認した。

This study で は, high precision に smoothing さ れ た surface を planning write に よ り be presently す る こ と を purpose と し, concrete に は, ナ ノ メ ー ト ル の surface coarse さ が requirements さ れ る X-ray ミ ラ ー の planning write に よ を refers the る cropping し た. This プ ロ セ ス は where method を ベ ー ス と し て お り, last year preparing し た electrode be を 験 device with い た based beg を 検 be applied し た. Beg electrode, electrode layer forming conditions の 検 formation に お け る バ イ ン ダ ー の Cr の is を total reflection X-ray analysis に 蛍 light よ り に quantitative survey を be し, Cr content を precision に adjustment す る こ と で, and good conditions for the を な stripping out し た. Beg good, metal precipitation conditions の 検 な smooth surface の planning to write be に を purpose now, Ni metal precipitation condition と electrode layer formed の precision な explore を be applied し た. Metal precipitation conditions の な detailed investigation を す る た め に ピ コ ア ン メ ー タ ー と エ レ ク ト ロ メ ー タ ー に よ る precision current, electric 圧, determination of を be applied し た. The そ results, standard electrode reference による voltage を determine that する となった とが may となった. そ の results, マ ス タ ー surface と equal の planning write surface を る matter に successful し, さ ら に EEM に よ り smoothing さ れ た surface の planning write を be し, 1 mu mx1 mu m square に お い て, RMS0.1 nm レ ベ ル の を smooth surfaces る こ と を confirm し た. , various マ ス タ を ー surface with い た の planning write surface coarse さ review 価 マ ス タ ー substrate と し て, Si ウ エ ハ ー と quartz ガ ラ ス を with い た. Si の は, Ni シ リ サ イ が ド layer formed さ れ て お り, time 経 と と も に stripping す る こ と が difficult で あ る こ と が わ か っ た. Youdaoplaceholder0 そ result, そ スタ と と て て た, quartz ガラス surface を washing た. マ ス タ ー を 2 back to use し て も, マ ス タ の ー surface coarse さ は - わ ら ず, 2 pa2 の planning write surface に masato し て も, good な surface coarse さ を confirm し た.

项目成果

反射型光学素子作製のためのナノ精度表面転写法の開発

开发用于制造反射光学元件的纳米精密表面转移方法

• 发表时间: 2007
• 作者: 芝谷昭彦;他
• 通讯作者: 他

精密形状転写法

精密形状传递法

• 发表时间: 2006