高精度X線ミラー作製のためのナノ精度表面形状転写法の開発

开发用于制造高精度X射线镜的纳米精度表面形状转移方法

• 批准号: 18760100
• 负责人: 三村 秀和
• 金额: $ 2.05万
• 依托单位: Osaka University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2006
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2006 至 2007
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-18760100/
• 关键词: 電鋳; X線ミラー; ナノ精度; 転写; 表面

本研究では、高精度に平滑化された表面を転写により実現することを目的とし、具体的には、ナノメートルの表面粗さが要求されるX線ミラーの転写による作製を目指した。本プロセスは電鋳法をベースとしており、昨年度準備した電析実験装置を用いた基礎的検討を実施した。・ 電極層形成条件の検討電極層形成におけるバインダー層のCrの量を全反射蛍光X線分析により定量的に調査を実施し、Cr量を精密に調整することで、良好な剥離条件を見出した。・ 金属析出条件の検討良好な平滑転写表面の実現を目的に、Ni金属析出条件と電極層形成条件の精密な探索を実施した。金属析出条件の詳細な調査をするためにピコアンメーターとエレクトロメーターによる精密電流、電圧、測定を実施した。その結果、標準電極基準による電圧を決定することが可能となった。その結果、マスター表面と同等の転写表面を得る事に成功し、さらにEEMにより平滑化された表面の転写を実施し、1μmx1μm四方において、RMS0.1nmレベルの平滑表面を得ることを確認した。・ 各種マスター表面を用いた転写表面の粗さ評価マスター基板として、Siウエハーと石英ガラスを用いた。Siの場合は、Niシリサイド層が形成されており、時間経過とともに剥離することが困難であることがわかった。その結果、マスターとしては、石英ガラス表面を洗濯した。マスターを2回使用しても、マスター表面の粗さは変わらず、2回目の転写表面に関しても、良好な表面粗さを確認した。

In this study, the high precision smoothing of the surface is required for the purpose, the concrete, the surface roughness and the X-ray smoothing of the surface. This is the first time that we've been able to prepare for the basic analysis of electricity. The electrode layer formation conditions are discussed. The Cr content of the electrode layer is quantitatively investigated by total reflection X-ray analysis. The Cr content is precisely adjusted. Good stripping conditions are found In order to achieve good metal precipitation conditions and smooth writing surfaces, precise exploration of Ni metal precipitation conditions and electrode layer formation conditions was carried out. Detailed investigation of metal precipitation conditions, precision current, voltage and measurement The voltage of the standard electrode is determined by the results. The results of the test, the surface of the sample and the equivalent surface of the sample were successful, and the surface of the sample was smoothed by EEM. The surface of the sample was smooth by 1μ m x 1μm. The RMS was 0.1nm. All kinds of surface roughness In the case of Si, Ni and Si layers are formed, and it is difficult to separate them. As a result, the quartz surface was washed. 2 times use, surface roughness, 2 times write, surface roughness

项目成果

反射型光学素子作製のためのナノ精度表面転写法の開発

开发用于制造反射光学元件的纳米精密表面转移方法

• 发表时间: 2007
• 作者: 芝谷昭彦;他
• 通讯作者: 他

精密形状転写法

精密形状传递法

• 发表时间: 2006