Probing valence band of buried interfaces with soft x-ray standing wave spectroscopy

用软 X 射线驻波谱探测掩埋界面的价带

• 批准号: 19540327
• 负责人: EJIMA Takeo
• 金额: $ 3.16万
• 依托单位: Tohoku University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2007
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2007 至 2008
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-19540327/
• 关键词: 埋もれた界面; 価電子帯; 定在波; 位相制御; 多層膜; Fe; Si界面; 発光分光; Si; Fe L_<2, 3>; 位相計測; 光電子分光; 磁性多層膜

Fe/Si多層膜の界面層の電子状態を知るために、位相制御をした定在波法と発光分光法を組み合わせて、Fe/Si界面の深さ方向の電子状態の変化を調べた。得られたFe L_(2, 3)発光スペクトルのスペクトル形状は、ほぼFe金属のスペクトル形状に類似して、Fe 3d→Fe 2p_(3/2)遷移による強度の強いL_3発光と、禁制遷移である強度の弱いFe 3d→Fe 2p_(1/2)遷移によるL_2発光を示した。Fe L_3発光スペクトルのピーク位置は、表面側Fe層から基板側Fe層に向って高エネルギー側にシフトした。これは発光点が表面側から基板側に移動するに従って、フェルミ準位近傍のFe 3d電子の状態密度が多い状態から少ない状態に変化していると考えられる。以上により、定在波法を用いた埋もれた界面の価電子帯の評価法が確立された。

The electronic state of the interface layer of Fe/Si multilayer film is known, the phase control is determined, and the electronic state of the interface layer of Fe/Si is adjusted by wave method and optical spectroscopy. The results show that the L_3 emission intensity is strong and the L_2 emission intensity is weak in the Fe3d → Fe2p_(3/2) migration. FeL_3 emission from the surface side of the Fe layer to the substrate side of the Fe layer to the high growth side of the Fe layer The density of states of Fe3d electrons near the quasi-position varies from multiple states to multiple states, and from multiple states to multiple states. The above methods are used to establish the electronic interface.

项目成果

X線結像光学(X-ray imaging optics)光学

X射线成像光学器件

• 发表时间: 2007
• 期刊: 36(4)
• 作者: T.Aoyama;M.Hayakawa;T.Kinoshita;M.Nio;柳原美広
• 通讯作者: 柳原美広

X線定在波の位相計測を用いた分光測定の探査深度制御 : Fe/Si界面への応用

使用 X 射线驻波相位测量进行光谱测量中的勘探深度控制：在 Fe/Si 界面上的应用

• 发表时间: 2008
• 作者: 辻見裕史;植寛素;南英俊;江島丈雄
• 通讯作者: 江島丈雄

波長40〜30nmにおけるワイドバンド反射多層膜

波长 40-30nm 的宽带反射多层涂层

• 发表时间: 2008
• 作者: 後藤智宏;江島丈雄;木村真一
• 通讯作者: 木村真一

Photoelectron spectroscopy with phases of standing waves observed by total electron yield and reflection spectra

通过总电子产额和反射光谱观察驻波相位的光电子能谱

• 发表时间: 2007
• 期刊: CP879, SRI: The 9^<th> International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation, ed. by J. -Y. Choi and S. Rah, AIP
• 作者: T. Ejima;A. Yamazaki;K. Sato;and Y. Nakamura
• 通讯作者: and Y. Nakamura

波長40~30nmにおけるワイドバンド反射多層膜

波长40~30nm宽带反射多层镀膜

• 发表时间: 2008
• 作者: 後藤智宏;江島丈雄;木村真一
• 通讯作者: 木村真一