Development of of boron doped nano-diamond film and application for glucose sensor
Development of of boron doped nano-diamond film and application for glucose sensor
掺硼纳米金刚石薄膜的研制及其在葡萄糖传感器中的应用
批准号：
20360056
负责人：
MURAKAMI Ri-Ichi
金额：
$12.56万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2008
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2008 至 2010
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英文摘要
In this study, we have developed the surface treatment method to immobilize an enzyme on the boron doped nano-diamond film and we have also developed glucose sensor using immobilized enzyme on the boron doped nano-diamond film. As a result, we clarified the glucose sensor indicates high sensitivity when the diamond film has high boron concentration.
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Field emission investigation of boron doped diamond thin films synthesized by microwave plasma chemical vapor deposition : Effect of vacuum annealing
微波等离子体化学气相沉积合成硼掺杂金刚石薄膜的场发射研究：真空退火的影响
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DOI：
--
发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
--
作者：
[P.M.Koinkar, D.Yonekura, T.G.Kim, M.A.More, R.Murakami, R.Murakami]
通讯作者：
R.Murakami
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2009
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作者：
[P.M.Koinkar, D.Yonekura, T.G.Kim, M.A.More, R.Murakami]
通讯作者：
R.Murakami
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MPCVD法沉积导电金刚石薄膜表面化学改性评价
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DOI：
--
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
作者：
[山田剛司, 延原由起, 崎原雅之, 平方寛之, 箕島弘二, 琵琶志朗, 山田 剛司, 村上理一]
通讯作者：
村上理一
Electrochemical properties of Boron-doped diamond deposited by microwave plasma cvd method
微波等离子体CVD法沉积掺硼金刚石的电化学性能
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DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
作者：
[君塚肇, 森英喜, 尾方成信, R. Murakami]
通讯作者：
R. Murakami
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