Development of scanning nanopipette probe microscope for 0.1 atto little deposition

开发用于 0.1 atto 小沉积的扫描纳米移液管探针显微镜

• 批准号: 20560105
• 负责人: IWATA Futoshi
• 金额: $ 3万
• 依托单位: Shizuoka University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2008
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2008 至 2010
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-20560105/
• 关键词: ナノ・マイクロ加工; ナノピペット; プローブ; SPM; マニピュレーション; 微細加工; 堆積微細加工; 滴下制御; 顕微鏡; 堆積加工; マニピュレーター; 推積加工

We developed a novel volume control technique for local metal-plating deposition using a scanning probe microscope with a nanopipette probe. The nanopipette probe was filled with CuSO_4 electrolyte solution. A Cu dot was electrochemically deposited on an Au surface by applying a dc bias voltage between the electrolyte solution and the surface. The volume of the deposited Cu dot was dependent on the electric charge during the electrochemical reaction. By controlling the electric charge during the deposition, it was possible to control the volume of the Cu dot.

我们开发了一种新的体积控制技术，局部金属电镀沉积使用扫描探针显微镜与纳米移液管探针。用CuSO_4电解质溶液填充纳米移液管探针。通过在电解质溶液和表面之间施加直流偏压，将Cu点电化学沉积在Au表面上。沉积的Cu点的体积取决于电化学反应期间的电荷。通过控制沉积过程中的电荷，可以控制Cu点的体积。

项目成果

電荷量制御によるナノピペットプローブをを用いた金属めっきドットの堆積量制御法の開発

开发一种使用纳米移液器探针通过控制电荷量来控制沉积金属镀点数量的方法

• 发表时间: 2010
• 作者: 伊東聡;岩田太
• 通讯作者: 岩田太

Volume Control Technique of Nano Metal Plating Using a Precisely Positioned Nanopipette Probe

使用精确定位的纳米移液管探针进行纳米金属电镀的体积控制技术

• 发表时间: 2010
• 作者: 伊東聡;岩田太
• 通讯作者: 岩田太

Fabrication of nanometer-scale metal dots using a scanning nano-pipette probe microscope with an electric charge control.

使用具有电荷控制的扫描纳米移液管探针显微镜制造纳米级金属点。

• 发表时间: 2009
• 作者: 伊東聡;慶野拓也;可児昌寛;岡田光希;岩田太
• 通讯作者: 岩田太

ステージ装置

舞台设备

• 发表时间: 2009

Counting of Electric Charge for Control of Local Metal Plating Using a Scanning Nanopipette Probe Microscope

使用扫描纳米移液器探针显微镜计数电荷以控制局部金属电镀

• 发表时间: 2010
• 作者: S.Ito;F.Iwata
• 通讯作者: F.Iwata