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Development of Acoustic Probe for Extreme Severe Environment

Development of Acoustic Probe for Extreme Severe Environment
极端恶劣环境声学探头的研制
批准号:
20560402
负责人:
KOIKE Yoshikazu
金额:
$2.83万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2008
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2008 至 2010

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
在本研究中,我们开发了用于极端恶劣环境的声探测器,以探测和测量声信号。该探头适用于两种极端恶劣的环境。一种是高温周向,另一种是声空化浸没在超高纯水中。使用了三种不同的声学探头。声学探头的第一种结构是石英熔管激光多普勒测振仪。在玻璃管内,用LDV测量振动位移。第二个探头是LDV,其中声压是通过光程差测量的。第三种配置是测量光纤末端反射强度的光纤。测量了点淋式超声波清洗机和波导式超声波清洗机的声压,为超高纯水提供声空化。可以检测到三次谐波成分。然而,尚未实现对绝对值的校准。
英文摘要
In this research, we develop acoustic probes for extreme severe environment in order to detect and to measure acoustic signal. The probe is applied to two extreme severe environments. One is high temperature circumferential and the other is immersion to ultra high pure water with acoustic cavitation. Three different acoustic probes are applied. First configuration of acoustic probe is a fused quartz tube with laser Doppler vibrometer(LDV). In the glass tube, the vibration displacement is measured by LDV. The second probe is a LDV in which acoustic pressure is measured by the optical path difference. The third configuration is a optical fiber in which reflection intensity at the fiber end is measured. Acoustic pressure of a spot shower type ultrasonic cleaning machine or a waveguide type is measured, which provides the ultra high pure water with acoustic cavitation. Third harmonic component can be detected. However, the calibration to the absolute value has not been achieved.
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会议论文
Application of Novel Ultrasonic Cleaning Equipment Using Waveguide Mode for Single-Wafer Cleaning Process
新型波导模式超声波清洗设备在单晶圆清洗过程中的应用
DOI: --
发表时间: 2010
期刊:
影响因子: --
作者: [K.Suzuki, Y.Imazeki, K.Han, S.Okano, J.Soejima, Y.Koike]
通讯作者: Y.Koike
A novel cleaning equipment using ultrasonic waveguide mode
一种新型超声波波导方式清洗设备
DOI: --
发表时间: 2009
期刊: Japanese Journal of Applied Physics 48
影响因子: --
作者: [K.Suzuki, K.Han, S.Okano, J.Soejima, Y.Koike]
通讯作者: Y.Koike
任意位置に照射可能なチューブタイプ高周波超音波洗浄機によるCMP後洗浄
使用可照射任何位置的管式高频超声波清洗机进行 CMP 后清洗
DOI: --
发表时间: 2009
期刊:
影响因子: --
作者: [Masato Odagaki, Tomonori Inoue, Taro Ikeda, Hiroshi Fukuda, Osamu Hiwaki, 鈴木一成,潘毅,岡野勝一,副島潤一郎,小池義和]
通讯作者: 鈴木一成,潘毅,岡野勝一,副島潤一郎,小池義和
導波路モードを用いた超音波用振動子による次世代半導体ウェーハ洗浄
使用波导模式超声波振动器的下一代半导体晶片清洗
DOI: --
发表时间: 2010
期刊: 日本音響学会誌 Vol.66, No.9
影响因子: --
作者: [鈴木一成,潘毅,岡野勝一,副島潤一郎,小池義和]
通讯作者: 鈴木一成,潘毅,岡野勝一,副島潤一郎,小池義和
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