Formation of high performance hydrophilic titanium oxide thin films

高性能亲水氧化钛薄膜的形成

• 批准号: 20560654
• 负责人: ARITA Makoto
• 金额: $ 2.83万
• 依托单位: Kyushu University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2008
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2008 至 2010
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-20560654/
• 关键词: 酸化チタン; 光触媒; 超親水性; 薄膜; 超親水; 光誘起; ルチル; アナターゼ; 親水性; 疎油性; 可視光応答性; スパッタリング; SOR光

We have investigated the photo-induced activities of titanium dioxide thin films obtained by reactive RF magnetron sputtering under various growth conditions. The growth pressure during the film deposition affected the photo-induced hydrophilic/catalytic activity. We showed that the photocurrent under ultraviolet light illumination well corresponded to the photo-induced activity of the films. It is suggested that the band bending near the surface is one of the most crucial factors determines the activity of photo-induced behavior of the titanium dioxide thin films.

研究了反应射频磁控溅射制备的二氧化钛薄膜在不同生长条件下的光致活性。薄膜沉积过程中的生长压力对光诱导亲水/催化活性有影响。我们发现紫外光照射下的光电流与薄膜的光诱导活性有很好的对应关系。结果表明，表面附近的能带弯曲是决定二氧化钛薄膜光诱导行为活性的关键因素之一。

项目成果

酸化チタン光触媒薄膜の活性に及ぼすポストアニールの影響

后退火对二氧化钛光催化薄膜活性的影响

• 作者: 毛利健吾;宮嶋秀和;坂本博紀;有田誠;増田正孝
• 通讯作者: 増田正孝

M.Arita, H.Sakamoto, Y.Tabata, Y.Ikoma,, M.Masuda.

M.Arita、H.Sakamoto、Y.Tabata、Y.Ikoma、M.Masuda。

• 作者: M.Arita;H.Sakamoto;Y.Tabata;Y.Ikoma;M.Masuda
• 通讯作者: M.Masuda

スパッタリング法により作製した酸化チタン薄膜の光触媒活性と光電気化学特性

溅射法制备二氧化钛薄膜的光催化活性及光电化学性能

• 发表时间: 2009
• 作者: 坂本博紀;田端悠;宮嶋秀和;有田誠;増田正孝
• 通讯作者: 増田正孝

陽極酸化 Al-Mg 合金の電解着色後の色調に及ぼす連続ねじり加工の影響

连续扭转对铝镁合金阳极氧化着色后色调的影响

• DOI: 10.2320/jinstmet.72.739
• 发表时间: 2008
• 期刊: Journal of The Japan Institute of Metals
• 作者: 悟 大上;博昭 中野;大輔 倉井;久哲 福島;克昭 中村;正孝 増田
• 通讯作者: 正孝 増田

Photo-electrochemical properties of photocatalytic titanium dioxide films prepared by RF magnetron sputtering

射频磁控溅射制备光催化二氧化钛薄膜的光电化学性能

• 发表时间: 2011
• 期刊: Proceedings of International colloquium on "Recent progress in nanofabrications of MEMS and NEMS : Science and innovation technologies"
• 作者: M.Arita;H.Sakamoto;Y.Tabata;Y.Ikoma;M.Masuda
• 通讯作者: M.Masuda