Investigation of process reaction mechanism in plasma nitridation with laser diagnostics

激光诊断等离子体氮化过程反应机理研究

基本信息

  • 批准号:
    20760046
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.75万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 财政年份:
    2008
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2008 至 2009
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

Plasma oxidation and nitridation are key technology in the silicon technology. In this study, we have successfully measured the absolute densities of activated species, such as oxygen and nitrogen atoms in these processing plasmas, with plasma diagnostics methods such as vacuum ultraviolet laser absorption spectroscopy, etc. Moreover, a technique with a micro hollow cathode lamp has been made technological advances for measuring the metastable atomic radicals.
等离子体氧化和氮化是硅工艺中的关键技术。在这项研究中,我们成功地用真空紫外激光吸收光谱等等离子体诊断方法测量了这些加工等离子体中的氧原子和氮原子等活性物种的绝对密度,此外,利用微型空心阴极灯测量亚稳态原子自由基的技术也取得了进展。

项目成果

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会议论文数量(0)
专利数量(0)
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y. Abe;K. Takeda;M. Sekine;M. Hori
  • 通讯作者:
    M. Hori
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Nobuyuki Tanaka;Mitsuru Higashimori;Makoto Kaneko;and Imin Kao;佐藤岳彦
  • 通讯作者:
    佐藤岳彦
自律型プラズマナノエッチング製造装置の創製~装置が自己判断、自己制御、自己修正する究極のプラズマプロセスの実現~
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    堀勝;竹田圭吾
  • 通讯作者:
    竹田圭吾
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