Development of chemical soft abrasive with high performance chemical mechanical polishing property

具有高性能化学机械抛光性能的化学软磨料的研制

• 批准号: 21560766
• 负责人: NAGAOKA Shoji
• 金额: $ 3.08万
• 依托单位: Kumamoto Industrial Research Institute
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2009
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2009 至 2011
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-21560766/
• 关键词: ダイヤ; セリア; 研磨材; セルロース; 硅素系化合物; ガラス基板; ポリマー粒子; カチオン; キレート; TCO; ポリマー; アミノ基; カルボキシル基; 透明導伝膜; 硅素化合物; ガラス; 金属酸化物膜

Generally, CeO_2 is utilized as abrasive for quartz glass substrate in bulk. It was hoped that the use of cerium that is rare earth, was reduced. We focused polymer-base materials as polishing materials for quartz glass substrate, and various types of cellulose/inorganic materials hybrid spherical microbeads, in order to develop reducing technique of usage of CeO_2. In addition, we developed chemical soft abrasives for transparent electrode using cationic polyacrylate spherical microbeads, in order to develop alternative materials to CeO_2. In polishing property, the polishing of substrate using conventional hard abrasive often invoked the wave, scratch and edge roll-off against a silicon and glass substrate surface. In the case of transparent electrode, the conductive layer was peeled from glass substrate. However, the developed chemical soft abrasives not only reduced usage of ceria for polishing of glass substrate, but could provide the excellent abrasive performance to quartz substrate i. e, non-wave, non-scratch and non-peeling for conductive layer.

石英玻璃基片一般采用CeO_2作磨料。人们希望减少铈（稀土）的使用。本论文重点研究了石英玻璃基片抛光用聚合物基材料和各种纤维素/无机材料杂化球形微球，以开发减少CeO_2用量的技术。此外，为了开发CeO_2的替代材料，我们还利用阳离子聚丙烯酸酯球形微珠研制了透明电极用化学软磨料。在抛光性能方面，传统的硬磨料对硅和玻璃基片的抛光常引起基片表面的波浪、划痕和边缘脱落。在透明电极的情况下，从玻璃基板剥离导电层。而研制的化学软磨料不仅减少了玻璃基片抛光中氧化铈的用量，而且对石英基片具有优异的研磨性能。即导电层无波纹、无划痕、无剥落。

项目成果

カチオン性ポリマービーズの調製とITO透明電膜ソフト研磨材への展開

阳离子聚合物微珠的制备及ITO透明膜软磨料的开发

• 发表时间: 2010
• 作者: 山之内瑛生;永岡昭二;城崎智洋;堀川真希;高藤誠;佐川尚;吉川暹;伊原博隆;永岡昭二,山之内瑛生,城崎智洋,堀川真希,高藤誠,佐川尚,伊原博隆
• 通讯作者: 永岡昭二,山之内瑛生,城崎智洋,堀川真希,高藤誠,佐川尚,伊原博隆

コアシェル微粒子の設計・合成技術・応用の展開、第三編第一章セルロースからの三原色マイクロビーズの調製とその環境浄化色材への展開

核壳粒子的设计、合成技术及应用开发，第3部分第1章纤维素三基色微珠的制备及其作为环境净化着色剂的开发

• 发表时间: 2010
• 作者: 永岡昭二;伊原博隆
• 通讯作者: 伊原博隆

研磨方法

抛光方法

• 发表时间: 2010

アミノ化ポリマービーズの調製とそのITO透明導電膜ソフト研磨材への応用

胺化聚合物微珠的制备及其在ITO透明导电薄膜软磨料中的应用

• 发表时间: 2011
• 作者: 山之内瑛生;永岡昭二;城崎智洋;堀川真希;佐川尚;田上梨沙;高藤誠;伊原博隆
• 通讯作者: 伊原博隆

イオン性ポリマービーズの調製とITO透明電膜ソフト研磨材への展開

离子聚合物微珠的制备及ITO透明膜软磨料的开发

• 发表时间: 2010
• 作者: 小西優輝;森川龍之介;中江雄大;森重大樹;竹中俊英;山之内瑛生,永岡昭二,城崎智洋,堀川真希,高藤誠,佐川尚,吉川暹,伊原博隆
• 通讯作者: 山之内瑛生,永岡昭二,城崎智洋,堀川真希,高藤誠,佐川尚,吉川暹,伊原博隆