量子ドットを利用した超高速偏波制御光デバイス技術の研究
量子ドットを利用した超高速偏波制御光デバイス技術の研究
批准号:
09J00935
负责人:
井上 知也
金额:
$0.9万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2009
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2009 至 2010
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英文摘要
本研究課題は、次世代の光通信網における中核的デバイスとして期待される半導体光増幅器(SOA)において課題である光増幅利得の偏波依存性を解決する、新たな量子ドット(QD)-SOAデバイスの創製を目的して行った。SOAは次世代光通信網で光信号増幅やスイッチングなどの役割を担う基幹デバイスとして期待されている。一方で、光学利得の偏波依存性、すなわちチップ面内に平行な光電場(TE偏波)成分と垂直な光電場(TM偏波)成分に対する光利得が異なること、が普及に向けた障壁となっている。この問題を解決するため、積層した自己形成InAs QD間の電子波動関数の結合に着目した。平成21年度には、分子線エピタキシャル(MBE)結晶成長装置を用いて精密に制御したQD積層構造を作製し、電流注入発光で偏波異方性1.2dBを実現し、目標の1dBに迫る特性を得た。一方、転位の発生に伴う発光効率の低下が解決すべき課題として見出された。そこで、平成22年度はこれを解決するため、光学利得を得ることのできる高い結晶品質と偏波無依存化を可能とする積層QD構造を両立することを目指した研究を遂行した。MBE成長時の諸条件を見直し、電流注入発光において2桁程度の発光強度の増大を実現した。また、QD積層成長条件を精密に制御することで、変更した作製条件下においても偏波異方性を解消できる条件を確立した。一方でQDへのSiドープが光学利得増大のために有効なアプローチとなることを見出した。一連の結果は、電流注入下で動作させるSOAにおいて偏波無依存利得を十分に期待できる成果であり、本手法によるSOAの偏波制御の有効性を実証できたものと考える。
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変調ドープGaAsにおける長寿命コヒーレントプラズモン
调制掺杂 GaAs 中的长寿命相干等离子体激元
DOI:
--
发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
--
作者:
[遠矢和勇騎, 久米田彰夫, 松本隆文, 中村大輔, 東畠三洋, 浅野種正, 岡田龍雄, 五井恵太, 原田幸弘, 阪本創, 大田翔平, 久保輝宜, 加島正一, 藤井良治, 小島磨, 田中秀治, S.Ohta, T.Yamashita, 山下太香恵, 小島磨, 五井恵太, 阪本創]
通讯作者:
阪本創
垂直共振器型量子ドット全光スイッチにおける2段階飽和
垂直腔量子点全光开关的两步饱和
DOI:
--
发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
--
作者:
[遠矢和勇騎, 久米田彰夫, 松本隆文, 中村大輔, 東畠三洋, 浅野種正, 岡田龍雄, 五井恵太, 原田幸弘, 阪本創, 大田翔平, 久保輝宜, 加島正一, 藤井良治, 小島磨, 田中秀治, S.Ohta, T.Yamashita, 山下太香恵, 小島磨, 五井恵太, 阪本創, 大田翔平, 田中秀治, 小島磨, 胡衛国, 藤井良治, T.Sakamoto, Y.Harada, T.Yamashita, O.Kojima, W.Hu, O.Kojima, Y.Harada, O.Kojima, C.Y.Jin, W.Hu, 小島磨, 小島磨, 小島磨, 原田幸弘, 山下太香恵, 濱野将吾, 狸塚正貴, 大田翔平, 原田幸弘, 胡衛国, 金潮淵]
通讯作者:
金潮淵
Exciton Response Controlled by Introducing a Spacer Layer in Nitrided InAs Quantum Dots
通过在氮化 InAs 量子点中引入间隔层来控制激子响应
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Y.Kaji, et al., M. Mamizuka]
通讯作者:
M. Mamizuka
積層InAs量子ドットにおける光学異方性
堆叠 InAs 量子点中的光学各向异性
DOI:
--
发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
--
作者:
[井上知也, 麻田将貴、喜多隆]
通讯作者:
麻田将貴、喜多隆
Polarization controlled emission from stacked InAs quantum dots
堆叠 InAs 量子点的偏振控制发射
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[C.Y.Jin, S.Ohta, M.Hopkinson, O.Kojima, T.Kita, O.Wada, 金潮淵, 小島磨, 小島磨, 井上知也]
通讯作者:
井上知也
共 35 条
Development of an Optimal Chemical Processing for Allogeneic In Vivo Tissue Engineered Vascular Grafts
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批准号:21K12649
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.66万
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财政年份:2021
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负责人:井上 知也
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依托单位:
海外基金