Bi-containing III-V semiconductor super lattices for laser diodes with temperature-insensitive laser oscillation wavelength

用于具有温度不敏感激光振荡波长的激光二极管的含Bi III-V半导体超晶格

基本信息

  • 批准号:
    21360008
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 9.82万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2009
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2009 至 2011
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

Bismuth-containing III-V semiconductors such as GaAsBi and related alloys have unusual properties owing to a reduction of the temperature coefficient of the band gap. These dilute bismuthide III-V alloys are promising for laser diodes with temperature-insensitive wavelengths. The results of transmission electron microscopy, photoluminescence measurements and deep-level transient spectroscopy reveal that metastable GaAsBi grown by molecular beam epitaxy(MBE) has sufficient quality desirable for optoelectronic devices. Laser oscillation for GaAsBi with a temperature-insensitive wavelength is achieved in this study for the first time. GaAsBi/AlGaAs multi-quantum wells have been successfully grown by MBE. Traps at GaAsBi/AlGaAs interface were analyzed, and the trap density was reduced.
含铋的III-V族半导体如GaAsBi和相关合金由于带隙温度系数的降低而具有不寻常的性质。这些稀铋化物III-V合金有望用于具有温度不敏感波长的激光二极管。透射电子显微镜、光致发光测量和深能级瞬态谱的结果表明,分子束外延(MBE)生长的亚稳态GaAsBi具有足够的光电器件所需的质量。首次实现了GaAsBi的温度不敏感波长的激光振荡。用分子束外延法成功地生长了GaAsBi/AlGaAs多量子威尔斯阱。分析了GaAsBi/AlGaAs界面陷阱,降低了界面陷阱密度。

项目成果

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专利数量(0)
GaAS_<1-x>Bi_xファブリ・ペローレーザの発振波長の低温度依存性
GaAS_<1-x>Bi_x法布里-珀罗激光器振荡波长的低温依赖性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    富永依里子;尾江邦重;吉本昌広
  • 通讯作者:
    吉本昌広
GaAs基板上GaAs_<1-x>Bi_x/Al_yGa_<1-y>As多重量子井戸構造の製作
GaAs衬底上GaAs_<1-x>Bi_x/Al_yGa_<1-y>As多量子阱结构的制备
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T.Fuyuki;Y.Tominaga;K.Oe;M.Yoshimoto
  • 通讯作者:
    M.Yoshimoto
Photo-pumped GaAs_<1-x>Bi_x lasing operation with low-temperature-dependent oscillation wavelength
具有低温相关振荡波长的光泵 GaAs_<1-x>Bi_x 激光操作
Lasing in GaAsBi with low temperature dependence of oscillation wavelength
GaAsBi 中的激光振荡波长对温度的依赖性较低
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Masahiro Yoshimoto;Yoriko Tominaga;Kunishige Oe
  • 通讯作者:
    Kunishige Oe
GaAs_<1-x>Bi_x/GaAsヘテロ接合界面の急峻性の熱処理による変化
热处理引起的GaAs_<1-x>Bi_x/GaAs异质结界面陡度的变化
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    富永依里子;尾江邦重;吉本昌広
  • 通讯作者:
    吉本昌広
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    ARATA Yuta;NISHINAKA Hiroyuki;SHIMAZOE Kazuki;YOSHIMOTO Masahiro;西中 浩之
  • 通讯作者:
    西中 浩之

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