Development and application of nano-analysis of optical materials by multi-dimensional spectrum image technique

多维光谱图像技术光学材料纳米分析的开发与应用

基本信息

批准号：
21360321
负责人：
MUTO Shunsuke
金额：
$ 11.48万
依托单位：
Nagoya University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2009
资助国家：
日本
起止时间：
2009 至 2011
项目状态：
已结题

项目摘要

The main achievement of this study is summarized in the following(1) We succeeded in developing a TEM specimen holder with the light-collecting system integrated, whose collection efficiency was increased by two orders of magnitude. We confirmed that it was able to measure cathodoluminescence from nanometer areas of optical materials.(2) We improved a program for multivariate curve resolution and clarified the nano-structure and spatial distributions of the chemical bonding states of the white-luminescent carbonized meso-porous silica nanocomposite, consisting of only ubiquitous elements.

这项研究的主要成就是在以下（1）中总结的，我们成功地开发了一个TEM标本持有人，并通过集成的光收集系统来开发其收集效率，从而提高了两个数量级的收集效率。我们证实，它能够从光学材料的纳米区域测量阴道发光。（2）我们改进了一个用于多元曲线分辨率的程序，并澄清了白色亮度碳化碳化碳化中液硅纳米复合物的纳米结构和空间分布，包括ubiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquiquip。

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

反応触媒濃度によるメソポーラスカーボンシリカの発光色制御

通过反应催化剂浓度控制介孔碳二氧化硅的发射颜色

DOI：
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
0
作者：
佐藤功二;石川由加里;石井陽祐;川崎晋司;武藤俊介
通讯作者：
武藤俊介

Ge添加シリカガラス発光材料のXAFS-S/TEM局所構造解析

掺Ge石英玻璃发光材料的XAFS-S/TEM局域结构分析

DOI：
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
0
作者：
吉田朋子;武藤俊介;レニユリアティ;吉田寿雄
通讯作者：
吉田寿雄

Ge添加シリカガラスの紫外発光サイト局所構造のEXAFS-RMC解析

掺Ge石英玻璃紫外发射位局部结构的EXAFS-RMC分析

DOI：
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
0
作者：
吉田朋子;武藤俊介;Leny Yuliati;吉田寿雄
通讯作者：
吉田寿雄

Site occupancy determination of Eu/Y doped in Ca_2SnO_4 phosphor by electron channeling microanalysis

电子通道微分析法测定Ca_2SnO_4荧光粉中Eu/Y的位点占用

DOI：
10.1016/j.optmat.2010.09.022
发表时间：
2011
期刊：
Optical materials
影响因子：
3.9
作者：
S. Muto;Y. Fujimichi;K. Tatsumi;H. Yamane and T. Kawano
通讯作者：
H. Yamane and T. Kawano

Comparative study of annealing and oxidation effects in a-SiC:H and a-SiC thin films deposited by radio-frequency magnetron sputtering

DOI：
10.1016/j.tsf.2010.11.005
发表时间：
2011-01
期刊：
Thin Solid Films
影响因子：
2.1
作者：
A. Vasin;S. Muto;Y. Ishikawa;A. Rusavsky;Tomohiko Kimura;V. Lysenko;A. Nazarov
通讯作者：
A. Vasin;S. Muto;Y. Ishikawa;A. Rusavsky;Tomohiko Kimura;V. Lysenko;A. Nazarov