Development of low friction and wear resistance surface manufacturing method of hard particles reinforced aluminum alloy
硬质颗粒增强铝合金低摩擦耐磨表面制造方法的开发
基本信息
- 批准号:21760110
- 负责人:
- 金额:$ 3万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份:2009
- 资助国家:日本
- 起止时间:2009 至 2011
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
The surface of high silicon aluminum alloy(high Si-Al Alloy) was machined by wet blast technique. The slurry, that is pure water contained with alumina particles with 1. 2μm in diameter by a concentration of 3 mass% is jetted on the high Si-Al alloy specimen. The impingement angle of the slurry was set from 45 to 90 degrees. As a result, the processed surface of high Si-Al alloy was classified into two types of topography. One is the surface with convex areas of Si, and the other is the surface with dimples of Si.
采用湿法喷砂技术对高硅铝合金(高硅铝合金)表面进行加工。将含1.2μm氧化铝颗粒的纯净水以3%的质量分数喷射到高硅铝合金试件上。泥浆的撞击角设置在45度到90度之间。结果表明,高硅铝合金加工表面可分为两种形貌类型。一种是含硅凸面的表面,另一种是含硅韧窝的表面。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
ウェットブラスト法による高Si含有Al合金の表面微細加工
高硅含量铝合金湿喷砂表面微加工
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Masato Inoue;Yoon-Eui Nahm;Haruo Ishikawa;伊藤文彦,宮島敏郎,岩井善郎
- 通讯作者:伊藤文彦,宮島敏郎,岩井善郎
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
MIYAJIMA Toshiro其他文献
MIYAJIMA Toshiro的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
相似海外基金
局在光を活用したエッチングによる完全平滑表面創製技術の確立
建立通过局部光蚀刻实现完全光滑表面的技术
- 批准号:
24KJ0524 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 3万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
電解水の酸化還元作用を併用した砥粒レス状態での高品位磁気援用表面創製法
利用电解水的氧化还原作用在无磨料状态下进行高级磁辅助表面创建方法
- 批准号:
22K03861 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 3万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Study on surface creation by combining electrolyzed water (reduction / oxidation) and magnetic field assisted processing method
电解水(还原/氧化)与磁场辅助加工方法相结合的表面生成研究
- 批准号:
18K03870 - 财政年份:2018
- 资助金额:
$ 3万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Investigation of Ultraprecision Surface Creation and Subsurface Damage Evolution in Silicon Carbide
碳化硅超精密表面生成和次表面损伤演化的研究
- 批准号:
233650219 - 财政年份:2013
- 资助金额:
$ 3万 - 项目类别:
Research Grants
Development of surface creation techniques by texturing for improvement of Tribological properties
通过纹理化开发表面创建技术以改善摩擦学性能
- 批准号:
19360068 - 财政年份:2007
- 资助金额:
$ 3万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
EEMによる次世代半導体・光学デバイス表面創製技術の開発
使用EEM开发下一代半导体和光学器件表面创建技术
- 批准号:
04J52761 - 财政年份:2004
- 资助金额:
$ 3万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows